Ultra Thin Films
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1. Deposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RF
Neste trabalho foram estudados filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados pela técnica sputtering reativo r.f., com diferentes fluxos de oxigênio e diferentes tempos de deposição. Foram estudadas as propriedades ópticas (Ultra-Violeta/Visível), bem como a morfologia da superfície (Microscopia de Força Atômica). As propriedades estruturais e
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 30/03/2012
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2. Estudo in-situ de filmes magnéticos ultrafinos por magnetometria Kerr e técnicas de superfície
The aim of this work is to apply Kerr magnetometry to ultra-thin magnetic films. A Kerr magnetometer operating in ultra high vacuum is described, as well as the modications and optimizations we have done, to achieve atomic monolayer sensibility. We present measurements performed on samples with different magnetic properties, such as exchange bias effect, sys
Publicado em: 2009
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3. Isolantes de porta com altas constantes dieletricas (High K) para tecnologia MOS / High K gate insulators for MOS technology
High k insulators for the next generation (sub-32 nm CMOS (complementary metaloxide-semiconductor) technology), such as titanium oxide (TiOx), titanium oxynitride (TiOxNy), titanium-aluminum oxynitride (AlxTiwOyNz), titanium-aluminum nitride (AlxTiwNz) and titanium-aluminum oxide (AlxTiwOy), have been obtained by Ti or Ti/Al e-beam evaporation, with addition
Publicado em: 2008
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4. Caracterização de filmes finos de óxido de silício depositados em um reator HD-PECVD a partir de TEOS a ultra baixa temperatura. / Characterization of silicon dioxide thin films deposited in a HD-PECVD reactor from TEOS at ultra low temperature.
This work reports on the results obtained from high-density plasma enhanced chemical vapor deposited silicon oxide films at ultra low temperature, i.e. 30°C, using TEOS vapor as the silicon source oxidized with assistance of argon. The objectives of this work are: first, understand the phenomena that conducts the chemical vapor deposition in high density re
Publicado em: 2007
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5. Investigação estrutural de filmes moleculares por microscopia de varredura por força / Structural Investigation of molecular films by scanning force microscopy
Molecular films constituted by ruthenium polypyridine complexes, triangular ruthenium acetate clusters, and polymetallated porphyrins have been systematically investigated, providing a wide range of functional interfaces for electronic devices, sensors, photoconversion and electrocatalytical cells. Such films have been generated by dip coating, drop casting
Publicado em: 2007
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6. Caracterização estrutural de pontos quânticos e filmes ultrafinos de CdTe/Si(111) / Structural characterization of CdTe/Si(111) quantum dots and ultra-thin films
Neste trabalho, foi feita a caracterização estrutural e morfológica de pontos quânticos e filmes ultrafinos de CdTe crescidos sobre substrato de Si(111) passivado com hidrogênio. As amostras foram crescidas por epitaxia de paredes quentes e caracterizadas por microscopia de força atômica e difração de raios- especular e incidência rasante.As analis
Publicado em: 2007
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7. Synthesis and characterization of copper hexacyanoferate nanoparticles and its application in Glucose Biosensor and electrochromics electrodes / Síntese e caracterização de nanopartículas de hexacianoferrato de cobre e sua aplicação em biossensores de glicose e eletrodos eletrocrômicos
In this work, the sonochemical synthesis and the characterization of copper hexacyanoferrate nanoparticles for producing ultra thin films with controlled thickness is reported. Due to its nanometric structure and the excess of superficial negative charges, the proposed immobilization methods were the electrostatic deposition layer by layer (LBL), using the P
Publicado em: 2007
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8. Desenvolvimento de um detector de alta eficiência para espectroscopia Mossbauer de elétrons de conversão (CEMS) a baixas temperaturas (<20 K) e testes em bicamadas Fe/ (EUxPb1-x)Te / Development of a highly efficient conversion electron Mossbauer spectroscopy (CEMS) detector for low temperature (<20 K) measurements and tests on Fe/ (EuxPb1-x)Te bylayers
The 57Fe Mössbauer spectroscopy is a nuclear, non-destructive technique used for the investigation of structural, magnetic and hyperfine properties of several materials. It is a powerful tool in characterizing materials in physics, metallurgy, geology and biology field areas, especially magnetic materials, alloys and minerals containing Fe. Lately, the Conv
Publicado em: 2006
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9. Estudo de filmes ultra-finos de Sb/In crescidos sobre Ni (111)
In this thesis we present a studied the growth of the ultra-thin films of Sb on Ni(111) and In on Ni(111), in the sub-monolayer regime. The main interest was on the understanding of the crystallography and electronic structure theses surface alloys. The films were grown under UHV conditions and characterized as to their electronic structure by X-ray Photoele
Publicado em: 2005
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10. Simulation of ionic resistivity of ultra-thin passivating films on metals during their galvanostatic transient growth
Para o caso de crescimentos transientes de filmes de passivação em condições galvanostáticas foram formuladas e resolvidas, por método numérico, equações diferenciais descrevendo a variação das concentrações de defeitos em filmes ultra-finos. Nas equações levou-se em conta a injeção de defeitos, a recombinação de alguns destes e o aumento
Journal of the Brazilian Chemical Society. Publicado em: 2002-08
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11. TiO2 thin film growth using the MOCVD method
Titanium oxide (TiO2) thin films were obtained using the MOCVD method. In this report we discuss the properties of a film, produced using a ordinary deposition apparatus, as a function of the deposition time, with constant deposition temperature (90 °C), oxygen flow (7,0 L/min) and substrate temperature (400 °C). The films were characterized by X-ray diffr
Materials Research. Publicado em: 2001-07
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12. Preparation and characterization of thin films of Nb2O5 doped with Li+ for possible architecture applications. / Preparação e caracterização de filmes finos sol-gel de Nb2O5 dopados com Li+ visando possível aplicação em arquitetura.
O presente trabalho consiste na preparação e caracterização de filmes finos de óxido nióbio (Nb2O5) dopados com trifluoro metano sulfonato de lítio (CF3SO3Li). A adição do sal de lítio tem como objetivo verificar a influência do mesmo nas performances opto-eletroquímicas dos filmes de óxido de nióbio. Os sóis para deposição dos filmes foram
Publicado em: 2001