Oxidação seletiva do silicio em baixas temperaturas : uma aplicação em dispositivos MOS auto-alinhados
AUTOR(ES)
Carlos Pimentel de Sousa
DATA DE PUBLICAÇÃO
1984
RESUMO
Not informed
ASSUNTO(S)
semicondutores de oxido metalico microeletronica filmes espessos - circuitos
ACESSO AO ARTIGO
http://libdigi.unicamp.br/document/?code=vtls000052500Documentos Relacionados
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