Filmes Finos De Boro
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1. Confecção e calibração de filmes finos de boro para medida da taxa de reação 10B(n,alfa)7 Li na terapia por captura de nêutrons pelo boro / Manufacturing and calibration of boron thin films for the 10B(n,alfa)7 Li reaction rate measurement in the boron neutron capture therapy
O princípio de funcionamento da Terapia por Captura de Nêutrons pelo Boro (BNCT, Boron Neutron Capture Therapy) é a entrega seletiva de uma maior quantidade de átomos de boro às células cancerígenas do que àquelas saudáveis, seguida da irradiação com nêutrons que irá induzir a emissão de partículas a e íons de recuo de 7Li através da reaçã
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 19/03/2012
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2. Magneto-transporte e magnetização em sistemas de carbono : filmes de diamante CVD dopado com boro e grafite HOPG implantado com Na
As propriedades magnéticas e de magneto-transporte de filmes finos de diamante dopado com boro e de amostras massivas de grafite pirolítico altamente orientado (HOPG) implantado com sódio foram estudadas experimentalmente em função da temperatura, do campo magnético aplicado e da concentração de impurezas. Os filmes de diamante foram produzidos com a
Publicado em: 2010
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3. Estudo do mecanismo de deposição de filmes finos de nitreto de boro assistida por feixe de íons / Study of the deposition mechanism of boron nitride thin films by ion seam assisted deposition
Filmes finos de BN foram depositados em uma ou duas camadas, em temperaturas entre a temperatura ambiente e 400oC, por deposição a vapor de átomos de boro sobre substratos de Si (111) ou Si (100), com irradiação simultânea de íons de argônio e/ou nitrogênio. A energia de íons variou de 400 a 1000 eV, e a razão de chegada ARR(N/A), definida pela ra
Publicado em: 2009
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4. Estudos da deposição de filmes de diamante CVD sobre carbeto de tungstênio, com interface controlada de boreto / Studies of the deposition of diamond CVD films on tungsten carbide, boride with interface control
O objetivo deste trabalho foi a obtenção de filmes de diamantes aderentes sobre substratos de WC-Co através da técnica CVD assistida por filamento quente, utilizando o processo de boretação para impedir a difusão do cobalto até a superfície do substrato. A técnica da boretação consiste num tratamento termoquímico, no qual átomos de boro são di
Publicado em: 2009
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5. Filmes de diamante-CVD sobre substrato de titânio puro poroso: uma proposta para aplicação como eletrodo / CVD-diamond films on tridimentional porous pure titanium substrate: an electrode application proposal
Um novo material compósito formado pelo filme de diamante micro e/ou nanocristalino, crescido sobre substrato de titânio puro poroso, foi extensivamente estudado considerando suas propriedades morfológicas, estruturais e eletroquímicas. Os filmes foram depositados pela técnica de deposição química a partir da fase de vapor utilizando um reator de fil
Publicado em: 2008
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6. Propriedades de transporte eletrônico em filmes de diamante crescidos por deposição de vapores químicos.
Neste trabalho foram investigadas experimentalmente algumas propriedades fundamentais para a caracterização elétrica de filmes de diamante sintéticos não dopados e dopados com Boro (tipo-p). Estudou-se a influência dos processos de limpeza na qualidade da superfície dos filmes de diamante para a fabricação de bons contatos elétricos metal-diamante,
Publicado em: 2007
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7. Estudo teórico de reações envolvidas no mecanismo de dissociação do NF3
Nesta tese é apresentado um mecanismo para explicar a decomposição do trifluoreto de nitrogênio (NF3), composto por 14 reações e também pela reação BF2+NF. Estas 15 reações fazem parte de um mecanismo maior, escrito para simular as condições de crescimento de filmes finos de nitreto de boro, via processo CVD. O NF3 possui várias aplicações na
Publicado em: 2007
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8. Produção e caracterização de filmes finos de óxido de zinco intrínsecos e dopados com alumínio e boro
Filmes finos de óxido de zinco intrínsecos (ZnO) e dopados com Alumínio (ZnO:Al) e Boro (ZnO:B) foram depositados por spray-pirólise sobre substratos de vidro. Foi estudada a influência de parâmetros como a concentração de dopante, temperatura de substrato (TS) e processamento térmico sob vácuo sobre as propriedades estruturais, óticas e elétrica
Matéria (Rio de Janeiro). Publicado em: 2006-09
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9. Estudos da nucleaÃÃo e crescimento de filmes finos de diamante-CVD dopados com boro sobre carbono vÃtreo para eletrodos de alto desempenho.
Neste trabalho, os primeiros filmes de diamante nÃo dopados e dopados com boro foram crescidos sobre substratos de CVR, pela tÃcnica HFCVD, apresentando suficiente adesÃo para manipulaÃÃo e ensaios eletroquÃmicos. Os filmes de diamante foram caracterizados quanto à morfologia e à qualidade cristalina utilizando-se as tÃcnicas de MEV e espectroscopia
Publicado em: 2006
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10. Síntese e caracterização de filmes finos do sistema Y2O3-Er2O3-Al2O3-B2O3 para aplicação como amplificadores ópticos planares. / Thin films preparation and characterization of the Y2O3-Er2O3-Al2O3-B2O3.
Esse trabalho de tese descreve a síntese e a caracterização de materiais amorfos e cristalinos na forma de pó e de filmes finos pertencentes ao sistema Er2O3-Y2O3-Al2O3-B2O3. O principal objetivo do trabalho foi o de obter filmes finos amorfos contendo íons Er3+ próximo à composição YAI3(BO3)4 (YAB), visando sua aplicação como amplificador em disp
Publicado em: 2006
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11. Eletroxidação de cloranfenicol e outros poluentes organicos utilizando reatores eletroquimicos, constituidos de anodos tipo DSA ou de diamante dopado com boro (DDB) / Electrooxidation of chloramphenicol and otherpollutants using electrochemical reactors composed with a DSA type anode or a boron-doped diamond anode
O método de oxidação eletroquímica foi aplicado a soluções aquosas contendo cloranfenicol (CAP) e outros compostos orgânicos. Para isso, utilizou-se um anodo de óxido condutor, comercial, tipo DSA®, de composição 70TiO2-30RuO2 e um anodo de diamante dopado com boro (DDB) tipo comercial. Cada anodo foi instalado em um reator tipo filtro-presa, em e
Publicado em: 2005
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12. Contribuição para a sintese de diamante com dopagens de boro, nitrogenio ou enxofre / Study of diamond doping with boron, sulphur and nitrogen
We studied the diamond doping processes with introduction of doping impurities during the diamond growth in the chemical vapor deposition (CVD) technique, using a hot-filament reactor. Our research focused the use of boron, nitrogen or sulphur atoms in order to obtain diamond films with semiconductor properties of electronic (n-type) or hole (p-type) current
Publicado em: 2004