Estudos da nucleaÃÃo e crescimento de filmes finos de diamante-CVD dopados com boro sobre carbono vÃtreo para eletrodos de alto desempenho.

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DATA DE PUBLICAÇÃO

2006

RESUMO

Neste trabalho, os primeiros filmes de diamante nÃo dopados e dopados com boro foram crescidos sobre substratos de CVR, pela tÃcnica HFCVD, apresentando suficiente adesÃo para manipulaÃÃo e ensaios eletroquÃmicos. Os filmes de diamante foram caracterizados quanto à morfologia e à qualidade cristalina utilizando-se as tÃcnicas de MEV e espectroscopia de espalhamento Raman, respectivamente. A tÃcnica de difraÃÃo de raios X foi tambÃm utilizada para se caracterizar os substratos e os filmes obtidos. A deposiÃÃo dos filmes em toda a extensÃo destes substratos tridimensionais, que apresentavam profundidades superiores a 4 mm, visou a obtenÃÃo de eletrodos de diamante com alta Ãrea superficial. Desta forma, Ãnfase foi dada aos estudos de variaÃÃo de parÃmetros de crescimento do diamante para maximizar a profundidade de obtenÃÃo desses filmes e conseqÃentemente obter total cobertura do substrato poroso. A relaÃÃo entre as propriedades dos substratos, produzidos a diferentes temperaturas de tratamento tÃrmico, e as caracterÃsticas morfolÃgicas, qualitativas e eletroquÃmicas apresentadas pelos filmes, tambÃm foi explorada. Para a caracterizaÃÃo eletroquÃmica foi utilizada a tÃcnica de voltametria cÃclica. Estes dados foram importantes para se comparar os eletrodos, com concentraÃÃo de boro em torno de 1019 Ãtomos.cm-3, em relaÃÃo aos eletrodos de diamante jà amplamente estudados. A faixa de potencial de trabalho em meio aquoso (KCl e H2SO4), a Ãrea superficial eletroquÃmica especÃfica e a reversibilidade do sistema em soluÃÃo com par redox Fe(CN)63-/4- para os eletrodos de diamante/CVR e de CVR tambÃm foram investigadas.

ASSUNTO(S)

tratamento tÃrmico fÃsico-quÃmica temperatura diamantes eletrodos crescimento de cristais deposiÃÃo quÃmica a vapor nucleaÃÃo filmes finos materiais vÃtreos carbono

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