Diamante Cvd
Mostrando 13-24 de 54 artigos, teses e dissertações.
-
13. Filmes de diamante nanocristalino infiltrados em substratos de silício poroso através das técnicas CVD/CVI / Nanocrystalline diamond films infiltrates in porous silicon substrate by CVD/CVI Processes
O crescimento de filmes de diamante nanocristalino (NCD - Nanocrystalline Diamond) obtido através da infiltração nos poros do silício poroso (PS - Porous Silicon) foi estudado utilizando microscopia eletrônica de alta resolução, difração de raios-x de alta resolução, espectroscopia de fotoelétrons de raios-x e espectroscopia de espalhamento Raman
Publicado em: 2009
-
14. Filmes de diamante nanocristalino infiltrados em substratos de silício poroso através das técnicas CVD/CVI / Nanocrystalline diamond films infiltrates in porous silicon substrate by CVD/CVI Processes
The growth of nanocrystalline diamond films (NCD) on porous silicon (PS) substrate was studied using high resolution scanning electron microscopy, high resolution X-ray diffraction, X-ray photoelectron spectroscopy and Raman scattering spectroscopy. The NCD/PS films resulted in a composite material, with great potential for electrochemical application, mainl
Publicado em: 2009
-
15. Estudo da formação de interface de boreto para a deposição de diamante cvd sobre carboneto de tungstênio / Study of the formation of interface of boreto for deposition of diamond cvd on carbide of tungsten
This work developed a preparation method of an interface for adherent CVD diamond deposition on tungsten carbide sintered with cobalt (WC-Co). This method consists on reactive boron thermodiusion on WC-Co surface. This boronizing process uses a powder mixture of B_4C, KBF_4 , C e SiC, it is performed in a stainless steel crucible, at 1000°C for 5h. The bori
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 15/04/2008
-
16. Filmes de diamante CVD em grandes áreas obtidos por crescimentos sucessivos em etapas
Buscou-se a redução da tensão intrínseca causada pelas impurezas que se agregam no processo de crescimento de um filme de diamante obtido por deposição química a partir da fase vapor (CVD, do inglês Chemical Vapor Deposition) em um reator de filamento quente (HFCVD), sobre um substrato de silício <100> de 250 µm de espessura em uma superfície de d
Matéria (Rio de Janeiro). Publicado em: 2008-09
-
17. Estudo da formação de interface de boreto para a deposição de diamante cvd sobre carboneto de tungstênio / Study of the formation of interface of boreto for deposition of diamond cvd on carbide of tungsten
Neste trabalho foi desenvolvido um metodo de preparação de uma interface para crescimento de diamante-CVD aderente em substrato de carboneto de tungstênio sinterizado com cobalto (WC-Co). Esse metodo consiste na termodifusão reativa de boro na superfície do WC-Co. Este processo de boretação usa uma mistura de pós contendo B_4C, KBF_4 , C e SiC, é fe
Publicado em: 2008
-
18. Estudo da formação de interface de boreto para a deposição de diamante cvd sobre carboneto de tungstênio / Study of the formation of interface of boreto for deposition of diamond cvd on carbide of tungsten
Neste trabalho foi desenvolvido um metodo de preparação de uma interface para crescimento de diamante-CVD aderente em substrato de carboneto de tungstênio sinterizado com cobalto (WC-Co). Esse metodo consiste na termodifusão reativa de boro na superfície do WC-Co. Este processo de boretação usa uma mistura de pós contendo B_4C, KBF_4 , C e SiC, é fe
Publicado em: 2008
-
19. Filmes de diamante-CVD sobre substrato de titânio puro poroso: uma proposta para aplicação como eletrodo / CVD-diamond films on tridimentional porous pure titanium substrate: an electrode application proposal
Um novo material compósito formado pelo filme de diamante micro e/ou nanocristalino, crescido sobre substrato de titânio puro poroso, foi extensivamente estudado considerando suas propriedades morfológicas, estruturais e eletroquímicas. Os filmes foram depositados pela técnica de deposição química a partir da fase de vapor utilizando um reator de fil
Publicado em: 2008
-
20. Contribuição para a sintese de diamante nanocristalino com dopagem de boro / Contribution towards the synthesis of boron doped nanocrystalline diamonds
This thesis presents a study of the growth and characterization of nano crystalline diamonds produced by the hot-filament chemical vapor deposition (CVD) with the introduction of boron during the growth process. Our objective was to produce samples with good electrical properties for field induced emission of electrons (FEE) to the vacuum. Characterization o
Publicado em: 2008
-
21. Filmes de diamante-CVD sobre substrato de titânio puro poroso: uma proposta para aplicação como eletrodo / CVD-diamond films on tridimentional porous pure titanium substrate: an electrode application proposal
A novel composite material formed from nanocrystalline and/or microcrystalline diamond films grown on pure porous titanium substrate was extensively studied taking into account their morphological, structural and electrochemical properties. The films were deposited by chemical vapor deposition technique, using a hot filament reactor, while the powder metallu
Publicado em: 2008
-
22. Taxa de crescimento de filmes de diamante CVD em superfícies de molibdênio
O preparo dos substratos, para o crescimento de filmes de diamante CVD, é de fundamental importância por diversos fatores. Um novo método de preparação dos substratos de molibdênio, o jateamento por óxido de alumínio, é apresentado e comparado com os métodos tradicionais de preparo. As amostras de diamante CVD obtidas foram analisadas por espectros
Rem: Revista Escola de Minas. Publicado em: 2007-06
-
23. Filme de diamante nanocristalino: efeito de confinamento e cálculo da tensão residual a partir de espectroscopia de espalhamento Raman
A morfologia e estrutura de filmes de diamante nano ou ultrananocristalinos, crescidos por deposição química da fase vapor (Chemical Vapor Deposition-CVD), sobre substrato de Si, são estudadas sistematicamente, variando-se a concentração de metano na mistura precursora de Ar/H2/CH4. Os filmes, analisados por microscopia eletrônica de varredura de alta
Publicado em: 2007
-
24. Nucleação e crescimento de filmes de diamante em substratos de zircônia parcialmente estabilizada
Neste trabalho foi investigado o processo de deposição de filmes auto-sustentados de diamante por deposição química a vapor (CVD) sobre substrato de zircônia parcialmente estabilizada com ítria (Zr02 PE). O objetivo principal foi entender os mecanismos responsáveis pelo fato do filme não aderir a este substrato e apresentar excelente grau de cristal
Publicado em: 2007