Corrosao Por Plasma De Oxigenio
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13. Contribuição ao estudo das propriedades fisicas e quimicas do filme amorfo de carbono hidrogenado
O filme amorfo de carbono [Amorphous Hydrogenated Carbon-(a-C:H)] apresenta altíssima resistência química às soluções aquosas, tanto ácidas como básicas, freqüentemente usadas para corroer e/ou polir vários tipos de materiais aplicados como substratos nas tecnologias da microeletrônica e/ou de microusinagem. Além disso este filme é facilmente re
Publicado em: 2000
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14. Caracterização da deposição e corrosão dos filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF
Os filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) foram fabricados através da técnica de deposição química a partir da fase de vapor assistida por plasma de rádio freqüência ( RF ), em um reator de placas paralelas, utilizando como fonte gasosa o metano ( CH4). Os filmes de carbono (a-C:H) foram depositados sobre substratos de silício ( Si ), ó
Publicado em: 1998
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15. Estudo da viabilidade da oxidação do silicio por plasma em reator planar
Neste trabalho é apresentado um estudo da viabilidade da oxidação do silício por plasma, em reator planar, como prcesso de baixa temperatura para a fabricação de circuitos integrados. No capítulo inicial coloca-se o contexto do trabalho assim como a sua proposiçao. No segundo capítulo apresenta-se uma descrição concisa da fenomenologia e do rnodel
Publicado em: 1988