Contribuição ao estudo das propriedades fisicas e quimicas do filme amorfo de carbono hidrogenado

AUTOR(ES)
DATA DE PUBLICAÇÃO

2000

RESUMO

O filme amorfo de carbono [Amorphous Hydrogenated Carbon-(a-C:H)] apresenta altíssima resistência química às soluções aquosas, tanto ácidas como básicas, freqüentemente usadas para corroer e/ou polir vários tipos de materiais aplicados como substratos nas tecnologias da microeletrônica e/ou de microusinagem. Além disso este filme é facilmente removível por plasma de oxigênio. A alta resistência química do filme de a-C:H implica que finas camadas do mesmo podem mascarar a corrosão do substrato por longos intervalos de tempo. O fato de este filme poder ser depositado à temperatura ambiente resulta na possibilidade da adoção da técnica de "lift-off , para seleção das áreas de deposição. Para a adoção da técnica de "lift-off a espessura do fotorresiste tem que ser ligeiramente maior que a espessura do filme a ser depositado e, portanto, quanto menor for a espessura do filme menor será a espessura do fotorresiste necessária, implicando diretamente em ganhos na resolução do processo fotolitográfico. Devido às razões acima expostas o propósito deste trabalho é o estudo do comportamento do filme de a-C:H quando utilizado como mascaramento de corrosão em meios aquosos, tanto ácidos como básicos. No Capítulo I, faz-se considerações gerais sobre propriedades do filme de carbono e sobre corrosões químicas em meios aquosos, incluindo-se considerações genéricas sobre os modelos das Corrosões Químicas Isotrópicas (CQI) e ,Corrosões Químicas Anisotrópicas (CQA) bem como as prováveis relações estequiométricas que regem a reação química global do fenômeno da corrosão. O Capítulo II é dedicado ao planejamento e execução das experiências bem como ao levantamento dos dados. Finalmente o Capítulo III é dedicado à apresentação e análise dos resultados, bem como às conclusões

ASSUNTO(S)

carbono filmes finos

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