Caracterização da deposição e corrosão dos filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF

AUTOR(ES)

Olga Viatcheslavovna Balachova

DATA DE PUBLICAÇÃO

1998

RESUMO

Os filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) foram fabricados através da técnica de deposição química a partir da fase de vapor assistida por plasma de rádio freqüência ( RF ), em um reator de placas paralelas, utilizando como fonte gasosa o metano ( CH4). Os filmes de carbono (a-C:H) foram depositados sobre substratos de silício ( Si ), óxido de silício ( Si02 ) e quartzo de espessuras diferentes. Foram obtidas as curvas características da taxa de deposição dos filmes de carbono em função da potência de RF e da espessura do substrato. Foi estudado o comportamento dos filmes de carbono (a-C:H) no plasma de oxigênio ( 02 ) e tetrafluoreto de carbono (CF 4 ) e foram obtidas as curvas de taxas de corrosão correspondentes. Também como resultado das experiências foram obtidas as curvas de taxa de corrosão de Si e Si02 no plasma de CF 4. Foram determinados também os valores da taxa de corrosão do fotorresiste Az 5214 no plasma de O2 e CF 4

ASSUNTO(S)

carbono plasma filmes finos

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