Difração multipla de raios-x no estudo de defeitos superficiais em semicondutores com implantação ionica
AUTOR(ES)
Marcelo Assaoka Hayashi
DATA DE PUBLICAÇÃO
1995
RESUMO
Não informado
ASSUNTO(S)
implantação ionica raios x - difração semicondutores
ACESSO AO ARTIGO
http://libdigi.unicamp.br/document/?code=vtls000085386Documentos Relacionados
- Difração multipla de raios-X no estudo de ordenamento em ligas semicondutoras e defeitos em semicondutores implantados
- Difração multipla de raios-X no estudo de impurezas em cristais
- Propriedades estruturais, densidade de deslocações e analise de defeitos superficiais em heteroestruturas semicondutoras por difração multipla de raios-x
- Largura de linhas de difração multipla dos raios-X
- Estudo de diamantes naturais com inclusões por difração de raios-X