Deposições reativas por Triodo-Magnetron-Sputtering: efeitos da malha da tela no processo de envenenamento do alvo e nas propriedades de filmes de TiN.

AUTOR(ES)
DATA DE PUBLICAÇÃO

2004

RESUMO

O triodo magnetron sputtering (TMS) é caracterizado pela presença de uma tela posicionada em frente ao magnetron. Neste trabalho realizou-se uma investigação experimental do efeito da malha da tela no processo de deposição e nas propriedades físicas dos filmes de TiN. Determina-se as curvas de histerese para três diferentes malhas de tela(18,10,5) com dois diferentes valores de pressões de argônio (2,0 e 3,0 mTorr). Utilizando-se telas mais "finas" (malha 18) amplia-se a faixa de operação do fluxo do gás reativo (N2) tornando mais fácil controlar o processo de deposição reativa para a obtenção de filmes TiN via TMS. A razão de deposição é fortemente afetada pela maloha de tela e também pela proporção de gás reativo no interior da câmara de descarga. A mudança do parâmetro "malha de tela" resulta em alterações na intensidade e na largura dos picos de difração de raios X dos filmes de TiN, provocando mudanças na microdureza dos mesmos, podendo alcançar o valor de 2300 HV. A microestrutura e topografia superficial dos revestimentos é pouco afetada por este parâmetro.

ASSUNTO(S)

engenharia de materiais e metalurgica malha da tela deposição reativa de tin microestructure screen net tin reactive deposition sputtering magnetron triode triodo magnetron sputtering

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