Sputtering Magnetron Triode
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1. Bias voltage influence on the mechanical and tribological properties of titaniumaluminum nitride coatings produced by triode magnetron sputtering
TixAl1-xN coatings were grown using the triode magnetron sputtering technique with various bias voltages between -40 V and -150 V. As the bias voltage increased, an increase in the Al atomic percentage was observed, presenting a competition with Ti and producing structural changes. Moreover, the grain size and roughness were also strongly influenced by the b
Matéria (Rio J.). Publicado em: 2015-03
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2. Medição de tensões residuais em filmes finos durante o processo de deposição. / Thin films residual stress measurement during deposition process.
Neste trabalho foram realizadas algumas deposições de filmes de Nitreto de Titânio sobre substrato de aço inoxidável. Foi utilizado o processo conhecido como triodo magnetron sputtering. Os parâmetros de deposição foram mantidos entre as deposições, exceto pela voltagem de bias no substrato, que foi variada de uma deposição para outra. Medições
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 28/07/2011
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3. Radar absorbing materials based on titanium thin film obtained by sputtering technique
Abstract: Titanium thin films with nanometer thicknesses were deposited on polyethylene terephthalate (PET) substrate using the triode magnetron sputtering technique. It was observed that the titanium thin film-polymeric substrate set attenuates the energy of the incident electromagnetic wave in the frequency range of 8 to 12 GHz. This result allows to consi
J. Aerosp. Technol. Manag.. Publicado em: 2011-12
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4. Deposições reativas por Triodo-Magnetron-Sputtering: efeitos da malha da tela no processo de envenenamento do alvo e nas propriedades de filmes de TiN.
O triodo magnetron sputtering (TMS) é caracterizado pela presença de uma tela posicionada em frente ao magnetron. Neste trabalho realizou-se uma investigação experimental do efeito da malha da tela no processo de deposição e nas propriedades físicas dos filmes de TiN. Determina-se as curvas de histerese para três diferentes malhas de tela(18,10,5) co
Publicado em: 2004
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5. Desposição de filmes metálicos sobre a poli(Tereflalato de etileno) via Triodo-Magnetron- Sputtering: influência da corrente e das voltagem nas propriedades do filmes
O Triodo Magnetron Sputtering (TMS) é um sistema de deposição de filmes caracterizado pela introdução de um terceiro eletrodo, que é constituído de uma tela móvel aterrada, situado entre o catodo (alvo) e o anodo (substrato). Esta tela tem o papel de capturar elétrons frios (menos energéticos) da descarga. Alterando-se a posição relativa desta te
Publicado em: 2004