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1. Esterificação de ácido oléico sobre catalisadores mesoporosos tipo SO4-2/MCM-41 visando a produção de biodiesel
Climatic changes, largely induced by the use of fossil fuels and the concern with the sustainable development, has become renewable sources of energy extremely important. Nowadays, renewable sources of energy can be obtained, among several available processes, starting from transesterification, esterification and pyrolysis reaction. The esterification reacti
Publicado em: 2009
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2. Silício poroso obtido por ataque químico / Porous silicon obtained by chemical etching
Este trabalho consiste em um estudo detalhado sobre camadas de Si poroso produzidas por ataque químico em lâminas de Si (001) do tipo p+ com soluções de HF:HNO3 nas proporções de 50:1 e 500:1 e com adição de NaNO2 na proporção de 0,1 g/L. Conjuntos de amostras com tempo de ataque de 1 a 30 min foram fabricados. As camadas produzidas com solução 5
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 28/04/2006
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3. Silício poroso obtido por ataque químico / Porous silicon obtained by chemical etching
This work reports on a detailed study of porous Si layers produced by chemical etch in p+-type (001) Si wafers with solutions of HF:HNO3 at concentrations of 50:1 and 500:1 added with NaNO2 diluted at 0.1 g/L. Sets of samples with etching times from 1 to 30 min were fabricated. Porous layers etched with the 500:1 solution during 1 to 10 min were found to be
Publicado em: 2006
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4. Silício poroso obtido por ataque químico / Porous silicon obtained by chemical etching
Este trabalho consiste em um estudo detalhado sobre camadas de Si poroso produzidas por ataque químico em lâminas de Si (001) do tipo p+ com soluções de HF:HNO3 nas proporções de 50:1 e 500:1 e com adição de NaNO2 na proporção de 0,1 g/L. Conjuntos de amostras com tempo de ataque de 1 a 30 min foram fabricados. As camadas produzidas com solução 5
Publicado em: 2006
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5. Propriedades estruturais e opticas de filmes finos de oxido de titanio depositados por PECVD
In this work, the plasma deposition of thin titanium oxide films and plasma particle formation processes have been investigated. The films were produced in a newly developed deposition technique derived from the conventional PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) proceedure. In this technique, which has been named modified PECVD, the films are dep
Publicado em: 1999