Dieletric Films
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1. Obtenção e caracterização de filmes finos e ultra-finos de oxido e oxinitreto de silicio em sistema "home-made" de plasma remoto
This work describes the formation and the characterization of thin and ultra-thin silicon oxide (SiO2) and oxynitride (SiOxNy) films formed by a home-made low temperature remote plasma system (RP). In this system, a 6O0W, 2.45GHz microwave generator, allows the formation of films by deposition (RPCVD) and oxidation (RPO) processes. The films were characteriz
Publicado em: 1999
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2. Obtenção de filmes finos isolantes de SiO2 e Si3N4 por deposição quimica a fase vapor auxiliada por plasma remoto
Dieletric films, are used in a large amount of applications in semicondutors devices. Several plasma enhanced deposition techniques have been studied in order to obtain insulating materiais with quality that can be employed in processes of manufacturing of devices. In this work, depositions of two different dieletric films are studied, with two different tec
Publicado em: 1996
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3. A new method for the study of charged transport in electric insulators. Application on polymers. / Corona com corrente constante: um novo método para o estudo de transporte de carga em isolantes. Aplicação em polímeros.
É apresentado neste trabalho um novo método de carga de filmes dielétricos com descarga corona, no qual a corrente de carga da amostra é mantida constante durante a deposição dos íons, enquanto o potencial de superfície é medido pela técnica do capacitor vibrante. O método foi aplicado no estudo de transporte e armazenamento de portadores em polí
Publicado em: 1982