Study of the roughness cadmium telluride of the thin films grown by hot wall epitaxy / Estudo da rugosidade de filmes finos de telureto de cádmio crescidos por epitaxia de paredes quentes

AUTOR(ES)
DATA DE PUBLICAÇÃO

2008

RESUMO

Neste trabalho estudamos o efeito da temperatura do substrato sobre os expoentes de Hurst (H) e de crescimento (β), em filmes policristalinos de telureto de cádmio crescidos sobre vidro coberto com óxido de estanho dopado com flúor. Para medir os expoentes e suas dependências em relação à temperatura crescemos amostras por 30 a 660 minutos e variamos as temperaturas dos substratos no intervalo de 150 a 300 C. Os perfis de altura da superfície das amostras foram medidas em varreduras de 300 μm através de um perfilômetro (XP1 - AMBIOS), o qual possui resolução vertical de 1,5 Å em 10 mm e resolução lateral de 100 nm. A partir desses dados foram determinados os expoentes H e β. O expoente de Hurst aumenta linearmente de 0,72 a 0,80 e o expoente de crescimento aumenta exponencialmente de 0,14 a 0,62, em função da temperatura. A rugosidade global também aumenta com a temperatura do forno do substrato, tornando-a um bom parâmetro para o controle da rugosidade.

ASSUNTO(S)

fisica da materia condensada cadmium telluride telureto de cádmio epitaxia de paredes quentes hot wall epitaxy rugosidade roughness

ACESSO AO ARTIGO

Documentos Relacionados