Crescimento e qualidade de mudas de Pinus taeda L. submetidas à poda química de raízes com cobre e ethefon / Quality and growth of Pinus taeda L. seedlings submitted to roots pruning with cupper and ethefon

AUTOR(ES)
DATA DE PUBLICAÇÃO

2005

RESUMO

O presente trabalho teve como objetivo avaliar os efeitos da poda química das raízes com sulfato de cobre, oxicloreto de cobre e ethefon (ácido 2-cloroetilfosfônico) sobre o crescimento e qualidade de mudas de Pinus taeda L. produzidas em tubetes. O experimento foi conduzido em viveiro comercial de produção de mudas no município de Lages, SC. Os tratamentos a base de sulfato de cobre ou oxicloreto de cobre foram feitos através da imersão dos tubetes em uma mistura de partes iguais de água e tinta látex comum, contendo 0, 12, 24, 36 e 48g de cobre L-1 de solução (tinta + água). O ethefon foi aplicado via aérea em mudas com 10-15cm de altura nas concentrações de 0, 50, 75, 100 e 125 mg (i.a.) L-1. Foi utilizado o delineamento em blocos ao acaso com cinco repetições. As variáveis analisadas em mudas com oito meses de idade foram alturas de parte aérea, massa seca da parte aérea e de raízes (total, de raiz primária e de raízes secundárias), diâmetro do coleto, número de raízes secundárias em três porções do sistema radicular (superior média e inferior), Índice de Qualidade de Dickson (IQD), e as relações altura/diâmetro do coleto, altura/massa seca de parte aérea e massa seca de parte aérea/massa seca do sistema radicular. Considerando o aumento da dose aplicada das fontes de cobre testadas, apenas o sulfato de cobre ocasionou redução significativa (P <0,01) na massa seca de raízes, no diâmetro do coleto, na altura e na massa seca de raízes secundárias. O incremento nas doses de sulfato de cobre promoveu redução na massa seca total do sistema radicular, especialmente através da inibição do desenvolvimento de raízes secundárias. O incremento nas doses de sulfato de cobre ocasionou aumento na concentração de cobre presente no substrato e nos tecidos do sistema radicular das mudas em relação ao oxicloreto de cobre. Desta forma, as mudas que receberam tratamento com as doses mais altas de sulfato de cobre apresentaram redução no IQD e no crescimento da parte aérea, demonstrando claramente sintoma de toxidez por cobre. O incremento nas doses de oxicloreto de cobre não causou redução na massa seca total do sistema radicular, mas promoveu aumento no número de raízes secundárias, concentradas especialmente nas porções mediana e superior do sistema radicular. O oxicloreto de cobre, mesmo nas doses mais elevadas, não ocasionou redução no IQD e no crescimento da parte aérea, indicando que não houve toxidez pelo cobre. Portanto, apesar do efeito promotor do sulfato de cobre na poda química do sistema radicular, o produto reduziu significativamente a emissão de raízes laterais, o mesmo não ocorrendo com o oxicloreto de cobre. Desta forma, o incremento nas doses de oxicloreto de cobre parece apresentar um efeito positivo maior em relação ao sulfato de cobre, já que um sistema radicular com maior número de raízes secundária curtas é desejável visando estabelecimento das mudas a campo. O incremento nas doses de ethefon aplicados na parte aérea das mudas, visando a liberação de etileno, não foi efetivo na poda química de raízes. O incremento nas doses de ethefon apenas ocasionou aumento significativo no acúmulo de matéria seca de raiz primária. Não houve efeito de dose do ethefon sobre os demais atributos de crescimento analisados.

ASSUNTO(S)

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