Otimização de parâmetros estruturais, dielétricos e ferroelétricos de filmes finos de PZT
AUTOR(ES)
Araújo, E. B., Eiras, J. A.
FONTE
Cerâmica
DATA DE PUBLICAÇÃO
2001-03
RESUMO
Este trabalho faz uma síntese de resultados obtidos para filmes finos de PZT processados por diferentes vias com objetivo de otimizar parâmetros estruturais, dielétricos e ferroelétricos. Filmes foram preparados em fornos convencionais e pelo método de tratamento térmico rápido (TTR). Os resultados foram comparados e mostraram que os filmes cristalizados usando TTR apresentaram uma melhor cristalização, comparado com os filmes cristalizados em forno convencional. Em conseqüência, melhores parâmetros dielétricos e ferroelétricos também foram obtidos, chegando a duplicar o valor da polarização remanescente (Pr) e aumentar significativamente a constante dielétrica (épsilon) dos filmes.
ASSUNTO(S)
filmes finos pzt ferroelétrico
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