Intercalação de litio em filmes finos de oxido de molibdenio

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DATA DE PUBLICAÇÃO

1998

RESUMO

Neste trabalho foram estudadas as propriedades de filmes finos de óxido de molibdênio depositadas por sputtering reativo, variando-se o fluxo de oxigênio (f) durante a deposição e mantendo-se os outros parâmetros de deposição constantes. A microestrutura e a composição dos filmes foram analisadas por Difração de Raios-X, Retroespalhamento de Rutherford e Espectroscopia de Fotoelétrons. O filme depositado em mais baixo fluxo de O2 foi identificado como MoO2. Com o aumento de f, os filmes evoluíram segundo o esquema: amorfo =>(MoO2.8+a-MoO3)=>b-MoO3=>(MoO2.8+b-MoO3). O comportamento das amostras frente à intercalação eletroquímica foi estudado em meio orgânico, contendo íons Li+, acompanhando-se as variações de transmitância (efeito eletroquímico) e as tensões mecânicas envolvidas no processo de inserção/de-inserção reversível de íons/elétrons na rede cristalina. Todas as amostras, exceto a de composição MoO2, são eletrocrômicas. A variação de tensão mecânica, em média, foi de 108 N m-2, para uma carga intercalada de 20mC/cm2. O filme que apresentou conjuntamente as melhores propriedades ópticas e mecânicas tem estrutura b-MoO3

ASSUNTO(S)

dispositivos de filme fino efeito da tensão

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