Gravação e caracterização de nanoestruturas bidimensionais em relevo
AUTOR(ES)
Elso Luiz Rigon
DATA DE PUBLICAÇÃO
2003
RESUMO
This thesis describes the recording of two dimensional surface-relief nano structures, using double holographic exposures and lithography. The experimental conditions for recording photoresist masks are described, as well as for the lithography of the two dimensional pattern in three different materials: aluminum, nickel and hydrogenated amorphous carbon. For the lithography, techniques of lift off, thermal evaporation, selective eletrodeposition, plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD), and reactive ion etching (RIE) were used. Three optical properties, presented by dielectric and metallic two dimensional nano structures were studied: the anti-reflective effect, the photonic band gap and the extraordinary transmittance effect. Besides the theoretical study, experimental measurements of the anti-reflective effect in structures recorded in photoresist on glass were performed, as well as those of the extraordinary transmittance of nano holes in metallic films
ASSUNTO(S)
litografia nanoestrutura holografia otica - difração fotonica
ACESSO AO ARTIGO
http://libdigi.unicamp.br/document/?code=vtls000291044Documentos Relacionados
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