Desenvolvimento de sistema de esterilização por plasma a baixa pressão, usando sistema de acoplamento capacitivo e acoplamento indutivo / Development of plasma sterilization system at low pressure, using capacitive and inductively coupling system

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DATA DE PUBLICAÇÃO

2006

RESUMO

O objetivo deste estudo foi avaliar a eficácia da esterilização por plasma, utilizando como sensor o indicador biológico, esporos deBacillus subtilis. Nesse estudo foram utilizados reatores constituídos de acoplamento capacitivo modo RIE (Reactive Ion Etching) e acoplamento indutivo modo ICP (Inductively Coupled Plasma),sendo esse último classificado em dois tipos, cilíndrico e Planar. A diferença entre esses equipamentos está basicamente na forma de geração do plasma, sendo que no sistema RIE a potência de RF é aplicada nos eletrodos. No sistema ICP cilindrico, a potência é aplicada em uma bobina. No sistema planar que pode ser considerado como um sistema híbrido, a potência de RF é aplicada na bobina e nos eletrodos, fazendo assim com que se obtenha um plasma de alta densidade. Todos os experimentos envolvendo plasma foram desenvolvidos à temperaturas mais baixas quando comparadas com os processos esterilizantes a calor (por volta de 55 ºC), o que garante a possibilidade de aplicação em materiais poliméricos e ópticos (endoscópios, etc.). Os estudos de letalidade dos processos foram realizados utilizando esporos de Bacillus subtilis, veiculados em lamínulas de vidro, os quais foram submetidos a combinações de parâmetros de processo, permitindo a obtenção de dados comparativos quanto a sua letalidade e resistência, e, conseqüentemente, informações quanto à efetividade do processo de esterilização por plasma. Na utilização do sistema RIE os resultados obtidos mostraram-se bastante promissores, quando se utilizou potência de 150 W, pressão de 100 mTorr, vazão de 200 sccm, e tempo de 20 minutos, reduzindo a carga microbiana para próximo de zero nesse intervalo de tempo. Para potência de 100 W, utilizando todos os outros parâmetros, a carga microbiana foi reduzida com tempo de 60 minutos, não sendo este um resultado ideal, porém, ainda aceitável. Para o sistema ICP cilíndrico, os resultados foram também promissores, visto que se conseguiu reduzir a carga microbiana para próximo de zero, com 20 minutos de processo, sob pressão de 330 mTorr, potência de 350 e 400 W, e vazão do gás de 100 sccm. No sistema ICP Planar os resultados também foram muito bons, pois se conseguiu reduzir a carga microbiana para próximo de zero em 12 minutos, utilizando potência de 150 W, pressão de 100 mTorr, e vazão de 200 sccm. Esses resultados alcançados tanto para O2 puro quanto para O2 + H2O2, mostram a possibilidade da aplicação de ambos sistemas na esterilização de materiais hospitalares em geral, sendo entretanto necessários maiores estudos. Os resultados obtidos no trabalho possibilitarão projetar sistemas específicos que podem ser empregados em ambiente hospitalar e em estações de processamento de material cirúrgico.

ASSUNTO(S)

plasma sterilization dispositivos médicos esterilização por plasma medical devices

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