Influência dos parâmetros de crescimento em filmes finos de TiO2 depositados pelo método MOCVD

A síntese de filmes finos de TiO2 por meio do método MOCVD é descrita. Foi estudada a influência de parâmetros de deposição usados durante o crescimento nas características estruturais obtidas. Foram combinados diferentes temperaturas do banho organometálico, tempo de deposição, temperatura e tipo do substrato. A forte influência destes parâmetros na microestrutura final dos filmes foi estudada por meio de diferentes técnicas: microscopia eletrônica de varredura associada com espectroscopia eletrônica de dispersão de raios X, microscopia de força atômica e difração de raio...

• Assuntos:

  • compostos organometálicos
  • filmes finos
  • propriedades ópticas