Effect of etching and light-curing time on the shear bond strength of a resin-modified glass ionomer cement

O objetivo desta pesquisa foi avaliar a influência do condicionamento ácido e do tempo de fotopolimerização na Resistência Adesiva (RA) e no Índice de Adesivo Remanescente (IAR) do Cimento Ionômero de Vidro Modificado por Resina (CIVMR). Sessenta e oito incisivos permanentes de bovinos foram obtidos e incluídos em resina acrílica. Bráquetes metálicos edgewise foram colados nesses corpos de prova com o CIVMR Fuji Ortho. A amostra foi dividida em 4 grupos, utilizando os seguintes condicionamentos ácidos e tempos de fotopolimerização: G1- Ácido poliacrílico a 10% e 40 s (controle)...

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