Substrato Anisotropico
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1. Nucleacao de vortices e paredes de dominio em nanoestruturas magneticas / Nucleacao de vortices e paredes de dominio em nanoestruturas magneticas
Apresentamos neste trabalho uma investigação teórica de fases magnéticas e histereses de sistemas ferromagnéticos (F) acoplado a um substrato antiferromagnético (AF), conhecido na literatura como sistema de Exchange Bias de três diferentes sistemas: partícula, fita e filme, acoplados a um substrato antiferromagnético altamente anisotrópico. Estudam
Publicado em: 2010
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2. Estudos de plasmas fluorados aplicados em corrosão de silício usando simulação de modelo global e diagnósticos experimentais.
Neste trabalho foram realizadas investigações em plasmas fluorados CF4 e SF6 e em suas aplicações no processo de corrosão de lâminas de Si. Estes plasmas foram gerados no convencional reator RIE de eletrodo planar e em dois reatores especialmente desenvolvidos para os estudos previstos: reator RIE com eletrodo oco e reator constritivo para geração de
Publicado em: 2009
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3. Análise dos Modos Ressonantes em Antenas de Microfita sobre Substratos Iso/Anisotrópicos por Técnicas da Ressonância Transversa
Neste trabalho, são utilizadas a Técnica da Ressonância Transversa (TRT) e a Técnica da Ressonância Transversa Modificada (MTRT), para a determinação das freqüências dos modos ressonantes de antenas de microfita com patch quadrado, retangular e circular e com substratos isotrópicos e anisotrópicos. Para isso, é proposto um modelo da cavidade equi
Publicado em: 2005
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4. Análise de antenas de microfita com patches circulares sobre substratos anisotrópicos usando o método dos potenciais de Hertz
Este trabalho consiste na análise teórica e numérica das características de uma antena de microfita com patch circular, cujo substrato é composto por materiais dielétricos isotrópicos e anisotrópicos uniaxiais. Para isto, uma análise de onda completa é realizada, utilizando-se o Método dos Potenciais Vetoriais de Hertz no domínio da transformada
Publicado em: 2005
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5. Plasma etching of polysilicon and silicon nitride films for MEMS and CMOS technology / Corrosão por plasma de filmes de silicio policristalino e nitreto de silicio para tecnologia MEMS e CMOS
Este trabalho apresenta os resultados e as discussões dos mecanismos de corrosão por plasma de filmes de silício policristalino e nitreto de silício para aplicações em dispositivos MEMS e CMOS. A corrosão foi feita em um reator convencional de corrosão por plasma em modo RIE (Reactive Ion Etching). Para aplicação em MEMS, corrosões de silício pol
Publicado em: 2005
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6. Topoquimica de filmes de particulas de latex de Poli(estireno-co-acrilamida)
Esta tese demonstra efeitos da microquímica de partículas de látex sobre a formação de filmes e monocamadas de partículas de poli(estireno-co-acrilamida) (PS-AAM) usando técnicas microcópicas. O látex foi fracionado por sedimentação sob gravidade produzindo três frações de partículas com propriedades morfológicas e químicas diferenciadas. A
Publicado em: 2003
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7. Aplicação de estruturas PBG em dispositivos planares de microondas - linhas e antenas - em substratos dieletricos e semicondutores: desenvolvimento de tecnologia e caracterização
Estruturas PBG, Photonic BandGap, são redes artificiais que atuam como as bandas de energia existentes em uma rede cristalina de átomos. Controlando-se as dimensões características deste "cristal", pode-se controlar a propagação de modos eletromagnéticos na estrutura de forma a permitir a propagação de modos desejados e impedir a propagação de mod
Publicado em: 2001