Microeletronic
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1. Trapp : uma ferramenta para particionamento/posicionamento de celulas para metodologia tranca / A trapp tool for partitioning/placement of methodology tranca's cells
Este trabalho propõe e avalia um novo algoritmo para o posicionamento de células de circuitos que utilizam a metodologia de projeto TRANCA. O algoritmo proposto realiza o posicionamento por particionamento, em n-blocos, baseado no conceito de balanceamento de redes, realizando um pré-roteamento global. A maioria dos algoritmos de posicionamento por partic
Publicado em: 2010
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2. Análise de desempenho de topologias de redes em chip (NoC)
The need to meet the existing demands in the microeletronic market has prompted designers to compact a big number of IP blocks in a small silicon area. From the pratical point of view, the distribuition of these IP blocks becomes a issue due to physical issues like high impedance caused by the number of wires that interconncet them, the power consupmtion to
Publicado em: 2008
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3. Microeletronic pressure sensor based on the transversal piezoresistive effect in silicon / Sensor de pressão microeletronico baseado no efeito piezoresistivo transversal em silicio
This work describes a CMOS-Compatible multiterminal piezoresistive pressure sensor based on the transversal piezoresistive effect, which consists of a piezotransducer fabricated on a membrane. The layout of this piezoelement is designed in such a way that its sensitivity is improved by maximizing the effect of the mechanical stress over the equipotential lin
Publicado em: 2008
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4. Estudo e caracterização de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos por PECVD visando sua aplicação em MEMS e dispositivos ópticos. / Study and characterization of a-Si1-xCx:H thin films produced by PECVD aiming applications in mems and optical devices.
Neste trabalho foi desenvolvido um estudo sistemático das propriedades estruturais, mecânicas e ópticas de filmes de carbeto de silício amorfo hidrogenado (a-Si1-xCx:H) produzidos pela técnica de deposição química a vapor assistida por plasma (PECVD) a baixas temperaturas (320°C), utilizando silana (SiH4) e metano (CH4) como gases precursores do sil
Publicado em: 2008
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5. Fabricação de canaletas em substratos de silício para acoplamento fibra-guia utilizando siliceto de níquel como material de máscara. / Fabrication of V-grooves on silicon substrates for fibre-guide coupling using nickel silicide as mask material.
Neste trabalho, apresentamos um novo processo de fabricação para a obtenção de canaletas em V em substratos de silício monocristalino (100) para um acoplamento óptico utilizando siliceto de níquel como material de máscara. O filme de siliceto de níquel (10nm de espessura para 200 nm de nickel) foi obtido por processos de evaporação térmica e post
Publicado em: 2007
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6. Project of circuits for generation of voltage reference in receiving/transmitting RF systems. / Projeto de circuitos para geração de tensão de referência em sistemas receptores/transmissores RF.
This work consists in the design of a CMOS Voltage Reference Source with a temperature coefficient inferior to 50 ppm/ºC. This voltage source should be applied in radio frequency receptor/transmitter but can be also applied in any analog system. The technology employed in the design is the CMOS 0.35 µm from the AMS (Austria Micro Systems) with four metal l
Publicado em: 2007
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7. Polimerização por plasma de éter e ésteres orgânicos: caracterização e possíveis usos em microeletrônica. / Plasma polymerization of ethyl ether and ethyl or methyl acetate: film caracterization and microeletronic uses.
The aim of this work is to characterize thin films obtained by plasma polymerization of ethyl ether, ethyl or methyl acetate. The films were tested for adsorption of polar organic compounds in order to evaluate their use for sensors or preconcentrators manufacturing. It was tried plasma polymerization of pure reactants and mixtures of ethyl ether with oxygen
Publicado em: 2004