Materiais Pecvd
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1. Análise de filmes antirreflexo de dióxido de titânio e nitreto de silício em células solares P+NN+
In this work we compared the antireflection coatings of titanium dioxide and silicon nitride for p+nn+ solar cell fabrication. This type of solar cell is more stable in the long term compared to n+pp+ cells and allows obtaining higher efficiencies. TiO2 films were produced by evaporation in high vacuum by electron beam and by chemical vapor deposition at atm
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 07/12/2012
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2. Effect of PECVD deposition parameters on the DLC/PLC composition of a-C:H thin films
Filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) têm sido depositados na superfície de materiais para melhorar propriedades mecânicas, ópticas e químicas. Nesse estudo, foi empregado o sistema de deposição química assistida por plasma (PECVD) para sintetizar filmes de a-C:H com fases DLC (tipo diamante) e PLC (tipo polimérico). As pressões parcia
J. Braz. Chem. Soc.. Publicado em: 11/09/2012
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3. Polipropileno clarificado recoberto com filme de carbono amorfo hidrogenado pelo processo PECVD / Clarified polypropylene coated with hydrogenated amorphous carbon film by PECVD process
This work aimed to study the feasibility of application of clarified polypropylene (cPP) coated with hydrogenated amorphous carbon films (a-C:H) deposited by Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) in food packaging, mainly targeting the segment of bottles for carbonated beverages. For the deposition of films of a-C:H using different deposition pa
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 03/10/2011
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4. Efeito de lente térmica e não-linearidades ópticas do silício amorfo hidrogenado dopado com fósforo. / Thermal lens effect and optical nonlinearities of hidrogenated amorphous silicon doped with phosphorus.
Efeitos ópticos não-lineares foram estudados em filmes finos de silício amorfo hidrogenado através da técnica de varredura-Z, que utiliza um único feixe de luz laser de onda contínua, modulado na escala de tempo de milissegundos. Em tal técnica, amostras do material foram deslocadas ao longo da região focal de um feixe com perfil de intensidade gaus
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 16/06/2011
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5. Emissão óptica de plasma e desenvolvimento de a-Si:H por sputtering / Emissão óptica de plasma e desenvolvimento de a-Si:H por sputtering
A utilização do silício amorfo (a-Si) como camada emissora nas células fotovoltaicas baseadas em heteroestruturas tem se mostrado com várias vantagens em nível de custo de produção e desempenho se comparadas ao silício cristalino (c-Si). Em filmes de a-Si puro, existe uma grande concentração defeitos, aproximadamente 10 por cm e o hidrogênio exer
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 29/04/2011
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6. Estudo dos parâmetros de deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado obtidos pelo processo PECVD em embalagens de PET pós-consumo reciclado / Study of the deposition of thin films of hydrogenated amorphous carbon obtained by PECVD process in packaging recycled post consumer PET
Atualmente, observa-se que os resíduos poliméricos representam uma elevada parcela na composição dos resíduos sólidos urbanos (RSU). Dentre estes materiais tem-se destaque o poli (tereftalato de etileno) (PET) que é um dos principais polímeros consumidos no segmento de embalagens de rápido descarte. Desse modo, a reciclagem de PET visando aplicaçã
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 21/12/2010
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7. Éxcitons em nanocristais de silício / Excitons in Silicon nanocrystals
As propriedades ópticas de nanocristais de silício (Si-ncs) têm sido extensivamente estudadas após a primeira demonstração em 1990 de fotoluminescência altamente eficiente em silício poroso. Apesar dos progressos no entendimento da natureza da alta eficiência da luminescência dos Si-ncs e da enorme versatilidade para aplicações optoeletrônicas,
Publicado em: 2010
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8. Estudo das propriedades estruturais e ópticas em materiais nanoestruturados a base de silício. / Study of structural and optical properties in nanostructured silicon based films.
The aim of this doctorate thesis is to enhance the knowledge in the research conducted along the Master degree based on the characterization and study of the structural and luminescent properties of silicon rich silicon oxynitride films (SiOxNy:H) deposited at low temperature by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD). The results of this study ind
Publicado em: 2009
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9. Optical, mechanical and structural properties of amorphous carbon films / Propriedades opticas, mecanicas e estruturais de filmes de carbono amorfo
Neste trabalho desenvolvemos um sistema de deposição de filmes finos pela técnica de arco catódico filtrado (FCVA- Filtered Cathodic Vacuum Arc), que possibilita o desenvolvimento de ligas metálicas e, sobretudo, a deposição de filmes de carbono amorfo altamente tetraédrico. Utilizando este sistema desenvolvemos filmes de carbono amorfo (a-C) com ele
Publicado em: 2009
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10. Otimização das propriedades mecânicas e tribológicas de filmes de DLC crescidos sobre substratos metálicos objetivando aplicações espaciais e industriais.
A deposição de filmes finos de DLC com propriedades mecânicas e tribológicas avançadas tem sido um apelo muito forte devido as evidentes aplicações espaciais e industriais onde existem situações de extrema agressividade mecânica e química. Neste trabalho de Doutorado, além das soluções para a área espacial, encontraram-se também, soluções p
Publicado em: 2008
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11. Thermo-mechanical properties of a-SiC:H and SiOxNy thin films and development of MEMS. / Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS.
O presente trabalho, realizado junto ao Grupo de Novos Materiais e Dispositivos (GNMD), no Laboratório de Microeletrônica do Departamento de Sistemas Eletrônicos da Escola Politécnica da USP, visou determinar algumas das propriedades termo-mecânicas de materiais depositados pela técnica de plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) que são impo
Publicado em: 2008
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12. Estudo da morfologia e estrutura de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) obtidos pela técnica de PECVD. / Morphological and structural studies of silicon oxynitride films (SiOxNy) obtained by PECVD technique.
Neste trabalho são apresentados resultados da caracterização estrutural e morfológica de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) depositados pela técnica de deposição química a vapor assistida por plasma (PECVD) a baixa temperatura (320°C). O objetivo deste trabalho é relacionar a composição química de ligas amorfas de SiOxNy com suas propried
Publicado em: 2007