Magnetrons
Mostrando 1-5 de 5 artigos, teses e dissertações.
-
1. Obtenção de filmes finos de SiC, SiCN e AlN por magnetron sputtering para aplicação em microsensores
No presente trabalho é reportado o crescimento de filmes finos de carbeto de silício (SiC), carbonitreto de silício (SiCN) e nitreto de alumínio (AlN) pela técnica de pulverização catódica com dois magnetrons (dual magnetron sputtering) visando a aplicação destes materiais na confecção de microsensores. Alvos de silício e carbono foram utilizado
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 13/04/2012
-
2. Crescimento de filmes finos cristalinos de dióxido de titânio por sistemas magnetron sputtering.
Nesse trabalho é reportado o crescimento de filmes finos de dióxido de titânio (TiO2) por duas técnicas assistidas a plasma chamadas magnetron sputtering convencional (MSC) e magnetron sputtering catodo oco (MSCO). O dióxido de titânio foi crescido sobre substratos de silício, variando alguns parâmetros de plasma como, por exemplo, a distância axial
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 26/02/2010
-
3. Crescimento de filmes finos cristalinos de dióxido de titânio por sistemas magnetron sputtering.
Nesse trabalho é reportado o crescimento de filmes finos de dióxido de titânio (TiO2) por duas técnicas assistidas a plasma chamadas magnetron sputtering convencional (MSC) e magnetron sputtering catodo oco (MSCO). O dióxido de titânio foi crescido sobre substratos de silício, variando alguns parâmetros de plasma como, por exemplo, a distância axial
Publicado em: 2010
-
4. Estudos em plasmas gerados em sistema magnetron para deposiÃÃo de nitreto de alumÃnio em baixa temperatura.
O nitreto de alumÃnio (AlN) tem atraÃdo muito interesse pelas suas notÃveis propriedades fÃsicas: dureza, alta condutividade tÃrmica, resistÃncia para altas temperaturas. Uma fonte de catodo oco DC foi adicionada a um sistema de sputtering magnetron. Isto leva a uma ionizaÃÃo na regiÃo do catodo e habilita a descarga a operar a pressÃes significati
Publicado em: 2007
-
5. Estudo das propriedades de filmes finos de nitreto de alumÃnio produzidos por processo de "magnetron sputtering" em regimes contÃnuo (DC) e alternado (RF).
Este trabalho tem como objetivo o estudo das propriedades de filmes finos de nitreto de alumÃnio produzidos por processo de "magnetron sputtering" usando-se alvo de alumÃnio de alto grau de pureza (99,999%). Os filmes foram produzidos em descargas a plasma sob regimes contÃnuo (DC) e alternado (RF). No curso deste estudo foi investigada a influÃncia da t
Publicado em: 2004