Hot Filament Chemical Vapor Deposition Hfcvd
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1. Diamond Films on Stainless Steel Substrates with an Interlayer Applied by Laser Cladding
The objective of this work is the Hot Filament Chemical Vapor Deposition (HFCVD) of diamond films on stainless steel substrates using a new technique for intermediate barrier forming, made by laser cladding process. In this technique, a powder layer is irradiated by a laser beam to melt the powder layer and the substrate surface layer to create the interlaye
Mat. Res.. Publicado em: 06/03/2017
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2. Filmes de diamante nano/ultrananocristalinos dopados com boro: propriedades morfológicas, estruturais e eletroquímicas / Boron doped nano/ultrananocrystalline diamond films: morphological, structural and electrochemical properties
É apresentado um estudo sistemático do processo de obtenção e caracterização de filmes de diamante nanocristalino dopados com boro. Os filmes foram obtidos pela técnica HFCVD (\textit{Hot Filament Chemical Vapor Deposition}), utilizando como fonte de dopante uma solução de óxido de boro em metanol. A princípio, na primeira série de experimentos v
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 15/12/2011
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3. Filmes de diamante nanocristalino infiltrados em substratos de silício poroso através das técnicas CVD/CVI / Nanocrystalline diamond films infiltrates in porous silicon substrate by CVD/CVI Processes
O crescimento de filmes de diamante nanocristalino (NCD - Nanocrystalline Diamond) obtido através da infiltração nos poros do silício poroso (PS - Porous Silicon) foi estudado utilizando microscopia eletrônica de alta resolução, difração de raios-x de alta resolução, espectroscopia de fotoelétrons de raios-x e espectroscopia de espalhamento Raman
Publicado em: 2009
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4. Filmes de diamante nanocristalino infiltrados em substratos de silício poroso através das técnicas CVD/CVI / Nanocrystalline diamond films infiltrates in porous silicon substrate by CVD/CVI Processes
The growth of nanocrystalline diamond films (NCD) on porous silicon (PS) substrate was studied using high resolution scanning electron microscopy, high resolution X-ray diffraction, X-ray photoelectron spectroscopy and Raman scattering spectroscopy. The NCD/PS films resulted in a composite material, with great potential for electrochemical application, mainl
Publicado em: 2009
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5. Estudos da deposição de filmes de diamante CVD sobre carbeto de tungstênio, com interface controlada de boreto / Studies of the deposition of diamond CVD films on tungsten carbide, boride with interface control
The objective of this work was to obtain adherent diamond films on WC-Co substrate through the hot filament assisted CVD technique, using a boriding process to form an intermediate layer and avoid the diffusion of the cobalt to the substrate surface. The boriding process consists of a reactive thermo diffusion treatment, in which boron atoms are spread in th
Publicado em: 2009
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6. Modelagem tridimensional de reator de filamento quente para crescimento de diamante / Three-dimensional modeling of hot filament reactor for diamond growth
O filamento quente é parte primordial no processo de crescimento de filmes de diamante utilizando reatores de deposição química a vapor assistidos por filamento quente. Desta maneira, realizou-se o estudo da eficiência energética de filamentos de diferentes diâmetros, localizados a diferentes distâncias do substrato. Para a realização deste estudo
Publicado em: 2009
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7. Modelagem tridimensional de reator de filamento quente para crescimento de diamante / Three-dimensional modeling of hot filament reactor for diamond growth
O filamento quente é parte primordial no processo de crescimento de filmes de diamante utilizando reatores de deposição química a vapor assistidos por filamento quente. Desta maneira, realizou-se o estudo da eficiência energética de filamentos de diferentes diâmetros, localizados a diferentes distâncias do substrato. Para a realização deste estudo
Publicado em: 2009
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8. Estudos da deposição de filmes de diamante CVD sobre carbeto de tungstênio, com interface controlada de boreto / Studies of the deposition of diamond CVD films on tungsten carbide, boride with interface control
O objetivo deste trabalho foi a obtenção de filmes de diamantes aderentes sobre substratos de WC-Co através da técnica CVD assistida por filamento quente, utilizando o processo de boretação para impedir a difusão do cobalto até a superfície do substrato. A técnica da boretação consiste num tratamento termoquímico, no qual átomos de boro são di
Publicado em: 2009
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9. Filmes de diamante-CVD sobre substrato de titânio puro poroso: uma proposta para aplicação como eletrodo / CVD-diamond films on tridimentional porous pure titanium substrate: an electrode application proposal
A novel composite material formed from nanocrystalline and/or microcrystalline diamond films grown on pure porous titanium substrate was extensively studied taking into account their morphological, structural and electrochemical properties. The films were deposited by chemical vapor deposition technique, using a hot filament reactor, while the powder metallu
Publicado em: 2008
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10. Filmes de diamante-CVD sobre substrato de titânio puro poroso: uma proposta para aplicação como eletrodo / CVD-diamond films on tridimentional porous pure titanium substrate: an electrode application proposal
Um novo material compósito formado pelo filme de diamante micro e/ou nanocristalino, crescido sobre substrato de titânio puro poroso, foi extensivamente estudado considerando suas propriedades morfológicas, estruturais e eletroquímicas. Os filmes foram depositados pela técnica de deposição química a partir da fase de vapor utilizando um reator de fil
Publicado em: 2008
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11. Estudo da formação de hidrogênio atômico no filamento do reator HFCVD / Study of the formation of atomic hydrogen in the filament of reactor HFCVD
A complexidade do entendimento no processo de deposição de diamantes HFCVD é causada pela interdependência de quatro estágios principais que são: formação de radicais perto do filamento, seu transporte, reações químicas na fase gasosa e reações químicas na superfície do substrato. Para entender os fenômenos que ocorrem durante o processo de d
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 28/02/2005