Fotolitografia
Mostrando 13-20 de 20 artigos, teses e dissertações.
-
13. Production and characterization of waveguides short for optical amplifiers with germane-tellurite glasses / Fabricação e caracterização de guias de onda para amplificadores opticos curtos com vidros germano-teluritos
Neste trabalho de pesquisa, reporto a fabricação e caracterização de vidros germano-telurito para amplificadores ópticos curtos. Estes são fabricados em guias de onda planar e canal pela técnica de troca iônica e fibra em vidro, dopados com altas concentrações de íons de Er3+ cuja composição é: 75TeO2 ? 2GeO2 ? (10+x)Na2O ? (12-x)ZnO ? 1Er2O3 (
Publicado em: 2005
-
14. Caracterização e otimização dos processos de fotolitografia aplicados na fabricação de dispositivos micrometricos MOS e microssistemas / MOS devices and MEMS photolithographic fabrication processes characterization and optimization
The aim of this work is to improve the photolithographic processes of the CCS/Unicamp. This work attempts findout and optimize the most significant process parameters for the fabrication of micrometric structures. Contrast, adhesion, resolution, and minimum dimension for the shapes were studied in order to improve the process and also determine their limitat
Publicado em: 2004
-
15. "Propriedades elétricas e ópticas de junções PIN de materiais semicondutores III-V sobre substratos de GaAs orientados na direção [311]A e [211]A"
Neste trabalho foram processados e caracterizados dispositivos emissores de luz (LEDs) baseados em estruturas p-i-n a partir de filmes de GaAs dopados unicamente com Silício e crescidos através da técnica de Epitaxia de Feixes Moleculares sobre substratos de GaAs orientados nas superfícies (311)A e (211)A. Nas superfícies (311)A e (211)A, o Si tem com
Publicado em: 2003
-
16. Corrosão por plasma para tecnologias CMOS e microssistemas
Esta tese apresenta os resultados do desenvolvimento e da otimização de uma tecnologia própria na área de fabricação de dispositivos CMOS e Microssistemas, realizados no Centro de Componentes Semicondutores da UNICAMP, pretendendo desenvolver processos em uma das técnicas mais críticas da microfabricação: corrosão de materiais por plasmas. Neste t
Publicado em: 2003
-
17. Projeto, microfabricação e caracterização de defletor de luz de silicio acionado por indução
ormado.
Publicado em: 2002
-
18. Filmes finos de pentoxido de tantalo crescidos por oxidação anodica visando suas aplicações como dieletrico de capacitores
Filmes fmos de pentóxido de tântalo (Ta20S) foram crescidos por processo de oxidação anódica, visando sua aplicação como material dielétrico. Os filmes de Ta20S foram obtidos a partir de filmes fmos de tântalo e nitreto de tântalo depositados por sputtering e sputtering reativo com nitrogênio, respectivamente. Utilizamos para o processo de oxidaç
Publicado em: 2000
-
19. Celulas solares de silicio cristalino com emissores profundos
Neste trabalho desenvolvemos células solares com junção profunda. Este tipo de estrutura é adotado com o objetivo de reduzir-se a concentração de fósforo nos emissores aumentando assim a coleção de fótons de alta energia e reduzindo a recombinação. Utilizamos lâminas de silício cristalino float-zone (FZ), tipo-p, orientação (100), resistivida
Publicado em: 1995
-
20. Tecnica de fotolitografia coerente
Procurou-se ao longo deste trabalho, desenvolver e caracterizar a Técnica de Fotolitografia Coerente, baseada na aplicação do laser de HeNe sobre placas fotográficas, explorando-se as características da radiação laser, tais como: monocromaticidade, brilho, coerência e modo de oscilação; de forma a induzir o efeito de absorção a dois fótons nos c
Publicado em: 1987