Filmes Finos De Diamantes
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1. Estudos da deposição de filmes de diamante CVD sobre carbeto de tungstênio, com interface controlada de boreto / Studies of the deposition of diamond CVD films on tungsten carbide, boride with interface control
O objetivo deste trabalho foi a obtenção de filmes de diamantes aderentes sobre substratos de WC-Co através da técnica CVD assistida por filamento quente, utilizando o processo de boretação para impedir a difusão do cobalto até a superfície do substrato. A técnica da boretação consiste num tratamento termoquímico, no qual átomos de boro são di
Publicado em: 2009
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2. Estudos da nucleaÃÃo e crescimento de filmes finos de diamante-CVD dopados com boro sobre carbono vÃtreo para eletrodos de alto desempenho.
Neste trabalho, os primeiros filmes de diamante nÃo dopados e dopados com boro foram crescidos sobre substratos de CVR, pela tÃcnica HFCVD, apresentando suficiente adesÃo para manipulaÃÃo e ensaios eletroquÃmicos. Os filmes de diamante foram caracterizados quanto à morfologia e à qualidade cristalina utilizando-se as tÃcnicas de MEV e espectroscopia
Publicado em: 2006
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3. Filmes intermediários para deposição de diamantes CVD sobre aços / Intermediate films for diamond deposition on steel
O presente trabalho está inserido dentro da linha de pesquisa na área de crescimento de diamante por deposição química da fase vapor (CVD "Chemical Vapor Deposition"), de filmes finos e auto-sustentados de diamante. A utilização de revestimentos de diamante CVD sobre alguns substratos de grande uso tecnológico, em particular os aços, ainda constitue
Publicado em: 2006
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4. Fabrication and electrical characterization of field emission tips covered by DLC (Diamond Like Carbon) thin films / Fabricação e caracterização eletrica de ponteiras de emissão de campo recobertas com filme fino DLC (Diamond Like Carbon)
The objectives of this dissertation were the fabrication of silicon field emitter tips coated with diamond like carbon (DLC) thin films, and the study of its electrical behavior. We present the fabrication process of silicon tips that consists on four stages: photolithography, reactive ion etching SF6 plasma, thermal oxidation for sharpening, and the DLC dep
Publicado em: 2005
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5. Estudo da usinabilidade de compÃsito carbono-carbono 2D com ferramentas cerÃmicas de nitreto de silÃcio comuns e revestidas com filme diamante por CVD.
Este trabalho tem como objetivo o desenvolvimento de ferramentas cerÃmicas de SiA1ON aditivado com AlN, Al2O3, Ce2O3 e Y2O3 e revestidas com filme de diamante por CVD para a usinagem de compÃsito carbono-carbono 2D. Numa primeira etapa, foram confeccionados corpos de prova atravÃs de sinterizaÃÃo à pressÃo atmosfÃrica, caracterizados em seguida quant
Publicado em: 2005
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6. Eletroxidação de cloranfenicol e outros poluentes organicos utilizando reatores eletroquimicos, constituidos de anodos tipo DSA ou de diamante dopado com boro (DDB) / Electrooxidation of chloramphenicol and otherpollutants using electrochemical reactors composed with a DSA type anode or a boron-doped diamond anode
O método de oxidação eletroquímica foi aplicado a soluções aquosas contendo cloranfenicol (CAP) e outros compostos orgânicos. Para isso, utilizou-se um anodo de óxido condutor, comercial, tipo DSA®, de composição 70TiO2-30RuO2 e um anodo de diamante dopado com boro (DDB) tipo comercial. Cada anodo foi instalado em um reator tipo filtro-presa, em e
Publicado em: 2005
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7. Desenvolvimento de um gerador de plasma de microondas para uso em CVD e sua aplicação na sintese de filmes de carbono amorfo hidrogenado
ormado.
Publicado em: 2004
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8. Contribuição para a sintese de diamante com dopagens de boro, nitrogenio ou enxofre / Study of diamond doping with boron, sulphur and nitrogen
We studied the diamond doping processes with introduction of doping impurities during the diamond growth in the chemical vapor deposition (CVD) technique, using a hot-filament reactor. Our research focused the use of boron, nitrogen or sulphur atoms in order to obtain diamond films with semiconductor properties of electronic (n-type) or hole (p-type) current
Publicado em: 2004
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9. Estudos comparativos dos efeitos da composição do gas de alimentação nas caracteristicas dos filmes DLC depositados por Magnetron Sputtering
Neste trabalho foram produzidos filmes finos de carbono tipo diamante (DLC) por meIo da técnica de deposição que utiliza o processo denominado de "DC Magnetron Sputtering" utilizando um alvo sólido e um gás hidrocarboneto como fonte de íons de carbono. O alvo sólido utilizado neste processo é um disco de carbono com 99,99% de pureza e a fonte gasosa
Publicado em: 2004
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10. Estudos das caracterÃsticas tribolÃgicas de filmes de DLC para aplicaÃÃes em sistema de lubrificaÃÃo seca.
Este trabalho teve como finalidade a realizaÃÃo de estudos das caracterÃsticas tribolÃgicas de filmes de carbono do tipo diamante (DLC - do InglÃs Diamond-Like Carbon) para aplicaÃÃes em sistema de lubrificaÃÃo seca. Os filmes foram obtidos via pulverizaÃÃo catÃdica por impacto de Ãons de argÃnio sobre um alvo de grafita. A descarga para produ�
Publicado em: 2004
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11. CorrosÃo de ligas de titÃnio recobertas com carbono tipo diamante (DLC) em meio contendo cloreto.
Neste trabalho foi realizada a deposiÃÃo de filmes de carbono sobre a liga de titÃnio Ti-6Al-4V empregada nos setores aeronÃutico e biomÃdico. Os filmes de carbono amorfo foram depositados atravÃs da pulverizaÃÃo catÃdica, com auxÃlio de um campo magnÃtico, de um alvo de carbono com 99,999% de pureza com dois plasmas diferentes: um plasma constitu
Publicado em: 2003
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12. Estudos para a obtenÃÃo de eletrodos a partir de filmes finos de diamante CVD dopados com boro em grandes Ãreas e aplicaÃÃes em sistemas de limpeza de Ãgua.
Neste trabalho, filmes finos de diamante dopados com boro foram crescidos sobre substratos de liga de titÃnio (Ti6Al4V) com Ãreas superiores a 12 cm2, pela tÃcnica CVD assistida por filamento quente. Ãnfase no crescimento de diamante em substratos perfurados foi dada para se aumentar a Ãrea superficial alÃm de promover um melhor fluxo do eletrÃlito na
Publicado em: 2002