Filmes Espessos
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13. Obtenção de filmes espessos de seleneto de cobre sobre carbono vítreo, ouro, titânio e cobre
Copper selenide (berzelianite) films were prepared on the title substrates using the chemical bath deposition technique (CBD). Film composition was determined by energy dispersion of x-rays. The kinetics of film growth is parabolic and film adherence limits the film thickness. On titanium, copper selenide forms islands that do not completely cover the surfac
Química Nova. Publicado em: 2007-04
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14. Filmes finos dielétricos para a tecnologia do silício : processamento térmico e caracterização
O rápido avanço tecnológico coloca a tecnologia do Si diante de um grande desafio: substituir o dielétrico de porta utilizado por mais de 40 anos em dispositivos MOSFET (transistor de efeito de campo metal-óxido-semicondutor), o óxido de silício (SiO2), por um material alternativo com maior constante dielétrica. Nesse contexto, vários materiais têm
Publicado em: 2007
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15. Estudo de adesivos condutivos isotrópicos utilizados para a fixação de componentes eletrônicos
Atualmente, os adesivos condutivos estão sendo visados como possível alternativa para substituir as pastas de solda convencionais na montagem de componentes eletrônicos em placas de circuito impresso (PCI), por serem menos nocivos ao meio ambiente e pela capacidade de fazer junções fine pitch. No entanto, pouco se conhece sobre o comportamento e proprie
Matéria (Rio de Janeiro). Publicado em: 2006-12
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16. CHITOSAN AND N-CARBOXYMETHYLCHITOSAN: DEVELOPMENT OF BIOFILMS FOR PHARMACEUTICAL APPLICATIONS / QUITOSANA E N-CARBOXIMETILQUITOSANA: DESENVOLVIMENTO DE BIOFILMES PARA APLICAÇÕES FARMACÊUTICAS
A quitosana (QTS) é um derivado hidrolizado da quitina, disponível comercialmente, com diversas aplicações industriais na área de biomateriais, alimentos, cosméticos e medicamentos. A QTS e a N-carboximetilquitosana (NCMQ) , entre outros derivados, têm sido estudadas quanto à propriedade de formação de filmes. Este trabalho visou a avaliação de f
Publicado em: 2006
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17. Síntese e caracterização de filmes finos do sistema Y2O3-Er2O3-Al2O3-B2O3 para aplicação como amplificadores ópticos planares. / Thin films preparation and characterization of the Y2O3-Er2O3-Al2O3-B2O3.
Esse trabalho de tese descreve a síntese e a caracterização de materiais amorfos e cristalinos na forma de pó e de filmes finos pertencentes ao sistema Er2O3-Y2O3-Al2O3-B2O3. O principal objetivo do trabalho foi o de obter filmes finos amorfos contendo íons Er3+ próximo à composição YAI3(BO3)4 (YAB), visando sua aplicação como amplificador em disp
Publicado em: 2006
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18. Standardized thick target PIXE analysis / "Padronização de análises PIXE de amostras sólidas em alvos espessos"
A técnica de análises PIXE (Particle Induced X-ray Emission) de alvos finos é rotineiramente usado no Instituto de Física da Universidade de São Paulo (USP) pelo Lamfi (Laboratório de Materiais e Feixes Iônicos) em análises quantitativas elementares. A calibração do arranjo experimental do Lamfi é realizada através da irradiação de filmes finos
Publicado em: 2005
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19. "Filmes finos de brometo de tálio (TlBr) produzidos por spray pyrolysis". / Thin films of thallium bromide (TlBl) manufectured by spray pyrolysis
Neste trabalho é apresentado o estudo de alguns dos principais parâmetros envolvidos na fabricação de filmes finos de brometo de tálio (TlBr) por meio da técnica de spray pyrolysis. Investigamos a possibilidade desta técnica vir a se tornar um método alternativo para fabricação de filmes finos de TlBr com qualidade adequada para a confecção de di
Publicado em: 2005
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20. Plasma etching of polysilicon and silicon nitride films for MEMS and CMOS technology / Corrosão por plasma de filmes de silicio policristalino e nitreto de silicio para tecnologia MEMS e CMOS
Este trabalho apresenta os resultados e as discussões dos mecanismos de corrosão por plasma de filmes de silício policristalino e nitreto de silício para aplicações em dispositivos MEMS e CMOS. A corrosão foi feita em um reator convencional de corrosão por plasma em modo RIE (Reactive Ion Etching). Para aplicação em MEMS, corrosões de silício pol
Publicado em: 2005
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21. Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD.
Neste trabalho apresentamos os resultados da deposição e caracterização de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de deposição química a vapor assistida por plasma (PECVD) à baixas temperaturas (320oC). O objetivo deste trabalho é obter filmes de ligas amorfas de silício, oxigênio e nitrogênio com composição química ajustável
Publicado em: 2003
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22. CorrosÃo de ligas de titÃnio recobertas com carbono tipo diamante (DLC) em meio contendo cloreto.
Neste trabalho foi realizada a deposiÃÃo de filmes de carbono sobre a liga de titÃnio Ti-6Al-4V empregada nos setores aeronÃutico e biomÃdico. Os filmes de carbono amorfo foram depositados atravÃs da pulverizaÃÃo catÃdica, com auxÃlio de um campo magnÃtico, de um alvo de carbono com 99,999% de pureza com dois plasmas diferentes: um plasma constitu
Publicado em: 2003
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23. Desempenho de um filme livre de cromo na proteÃÃo contra a corrosÃo de ligas de alumÃnio 2024.
Este trabalho propÃe o uso de um filme preparado a partir de soluÃÃo aquosa alcalina contendo Ãons de lÃtio, borato e alumÃnio, no sentido de inibir a corrosÃo de ligas de alumÃnio de uso aeronÃutico, buscando sempre comparaÃÃes com filmes de sais de cromo, atualmente utilizados. Os filmes foram obtidos por dip coating (5 minutos) e por polarizaÃ
Publicado em: 2002
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24. Fotocromismo em filmes óxidos de tungstênio
Neste trabalho foi estudado o comportamento ótico, decorrente do efeito fotocrômico, em filmes de óxido de tungstênio do tipo WO3-x depositados por sputtering sob diferentes fluxos de O2 e do tipo HxWO3, depositados por dip coating. O efeito foi provocado irradiando-se com luz UV, filmes colocados no interior de um fotoreator, em atmosferas de vapores de
Publicado em: 2001