Deposicao Quimica A Vapor Assistida Por Plasma
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1. Modificações superficiais de aço Ti-UBC por processos a plasma em configuração triodo: influência no comportamento ao desgaste e à corrosão
Os aços Ultra Baixo Carbono (UBC) têm baixo limite de escoamento e excelente conformabilidade. A Deposição Física de Vapor Assistida por Plasma (PAPVD) pode ser um método de recobrimento para melhorar as propriedades superficiais de resistência mecânica, à corrosão e ao desgaste de ligas de baixa resistência (MATTHEWS, 1995). Porém, quando deposi
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 14/07/2011
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2. Modificação da superfície do aço para melhorias na aderência de filmes de DLC / Steel surface modification for DLC films adhesion improvements
Em vista das excelentes propriedades físico-químicas dos filmes de carbono tipo-diamante (Diamond like Carbon-\textit{DLC}), atualmente, existe uma corrida científica e tecnológica para o desenvolvimento deste revestimento sobre superfícies metálicas em geral e, em especial, aquelas à base de ferro. A partir do momento em que se alcançarem melhorias
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 14/03/2011
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3. Caracterização e avaliação tribológica de superfícies resistentes ao desgaste para aplicação em ferramentas de conformação a frio
O desgaste é o fator que causa a maior parte das falhas e a redução na vida útil de ferramentas de conformação, além de resultar em produtos com condições superficiais intoleráveis. A crescente demanda da indústria por menores custos, maior produtividade e melhor qualidade estão entre as justificativas para que se busquem maneiras de incrementar
Publicado em: 2011
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4. Modificação da molhabilidade de filmes carbono amorfo hidrogenado por processos ópticos / Wettability modification of hydrogenated amorphous carbon film by optical process
Este trabalho tem como objetivo investigar as mudanças na mol habilidade de filmes de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) induzidas por processos ópticos. Estes filmes de a-C:H foram depositados pela técnica química na fase vapor assistida por plasma (PECVD) sobre substratos de aço e latão, em ambiente com 100% de acetileno. Dois grupos de amostras fora
Publicado em: 2011
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5. Filtros interferenciais construídos com dielétricos depositados pela técnica de PECVD. / Dielectric interferential filters deposited by PECVD.
Neste trabalho é apresentada a simulação, fabricação e caracterização de filtros interferenciais empregando películas dielétricas amorfas depositadas pela técnica de deposição a vapor assistida por plasma (PECVD) sobre substratos de silício e de Corning Glass (7059). Os dispositivos ópticos foram construídos usando-se processos padrões de mic
Publicado em: 2008
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6. Nanofibras de carbono verticalmente alinhadas:: estudo do crescimento por microscopia eletrônica de transmissão
This work is about the growth of vertically aligned Carbon Nanofibers - CNFs - grown by Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition - PECVD. Being so, a detailed study of catalyst particle is necessary and Transmission Electron Microscopy - TEM - is fundamental for this knowledge. Some analytical techniques associated to TEM were used: Bright and Dark Field I
Publicado em: 2008
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7. Estudo e caracterização de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos por PECVD visando sua aplicação em MEMS e dispositivos ópticos. / Study and characterization of a-Si1-xCx:H thin films produced by PECVD aiming applications in mems and optical devices.
Neste trabalho foi desenvolvido um estudo sistemático das propriedades estruturais, mecânicas e ópticas de filmes de carbeto de silício amorfo hidrogenado (a-Si1-xCx:H) produzidos pela técnica de deposição química a vapor assistida por plasma (PECVD) a baixas temperaturas (320°C), utilizando silana (SiH4) e metano (CH4) como gases precursores do sil
Publicado em: 2008
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8. Obtenção e caracterização de revestimentos de hidroxiapatita sobre substratos de aço inoxidável 316L utilizando a técnica de deposição química de vapor assistida por chama
A Deposição Química de Vapor Assistida por Chama (DQVAC) foi empregada de forma pioneira na obtenção de revestimentos de hidroxiapatita sobre substratos de aço inoxidável 316L. Esta técnica apresenta um grande potencial na deposição de óxidos, principalmente pelo baixo custo de equipamentos e insumos. Para aplicação como biomaterial, é desejáv
Publicado em: 2007
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9. Estudo da morfologia e estrutura de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) obtidos pela técnica de PECVD. / Morphological and structural studies of silicon oxynitride films (SiOxNy) obtained by PECVD technique.
Neste trabalho são apresentados resultados da caracterização estrutural e morfológica de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) depositados pela técnica de deposição química a vapor assistida por plasma (PECVD) a baixa temperatura (320°C). O objetivo deste trabalho é relacionar a composição química de ligas amorfas de SiOxNy com suas propried
Publicado em: 2007
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10. Estudo das modificações microestruturais e mecânicas de filmes de a-C:H, a-C:N:H: e a-C:F:H irradiados com íons de N/sup +/ e Xe/sup ++/
Nesse trabalho foram estudados os efeitos da irradiação iônica em filmes de carbono amorfo hidrogenado, sem (a-C:H) e com a presença de N e F (a-C:N:H e a-C:F:H, respectivamente). Os filmes foram crescidos através da técnica de Deposição Química na Fase Vapor Assistida por Plasma. Após a deposição, os filmes foram irradiados com N+ a 400 keV e Xe
Publicado em: 2007
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11. Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD.
Neste trabalho apresentamos os resultados da deposição e caracterização de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de deposição química a vapor assistida por plasma (PECVD) à baixas temperaturas (320oC). O objetivo deste trabalho é obter filmes de ligas amorfas de silício, oxigênio e nitrogênio com composição química ajustável
Publicado em: 2003
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12. PRODUCTION AND CHARACTERIZATION OF HYDROGENATED AMORPHOUS CARBON THIN FILMS DEPOSITED IN METHANE PLASMAS DILUTED BY NOBLE GASES / PRODUÇÃO E CARACTERIZAÇÃO DE FILMES FINOS DE CARBONO AMORFO HIDROGENADO DEPOSITADOS EM PLASMAS DE METANO DILUÍDOS POR GASES NOBRES
Neste trabalho são apresentados os efeitos da diluição da atmosfera precursora de metano por três gases nobres (Ar, Ne e He) nas propriedades mecânicas e na microestrutura de filmes de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H). Tanto a influência da diluição da atmosfera precursora de metano (para Vb=-350 V), como da variação da tensão de autopolarizaç�
Publicado em: 2003