Condensed Mater Physics
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1. Estudo do mecanismo de deposição de filmes finos de nitreto de boro assistida por feixe de íons / Study of the deposition mechanism of boron nitride thin films by ion seam assisted deposition
Filmes finos de BN foram depositados em uma ou duas camadas, em temperaturas entre a temperatura ambiente e 400oC, por deposição a vapor de átomos de boro sobre substratos de Si (111) ou Si (100), com irradiação simultânea de íons de argônio e/ou nitrogênio. A energia de íons variou de 400 a 1000 eV, e a razão de chegada ARR(N/A), definida pela ra
Publicado em: 2009