Carbono Amorfo Hidrogenado
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1. STUDY OF THE TRIBOLOGICAL PROPERTIES OF FLUORINATED AMORPHOUS CARBON FILMS / ESTUDO DAS PROPRIEDADES TRIBOMECÂNICAS DE FILMES DE CARBONO AMORFO FLUORADO
Este trabalho teve como objetivos o estudo das modificações nas propriedades de filmes de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) através do tratamento da sua superfície com plasma de tetrafluoreto de carbono (CF4) e Argônio e a deposição e estudo das propriedades tribológicas de filmes de carbono amorfo fluorado e hidrogenado (a-C:F:H) sobre substrato de
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 16/03/2012
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2. POLIPROPILENO CLARIFICADO RECOBERTO COM FILME DE CARBONO AMORFO HIDROGENADO PELO PROCESSO PECVD
Autor: Paulo Henrique Lopes AguiarResumoEsta dissertação teve como objetivo principal estudar a viabilidade de aplicação de filmes de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H), depositado por Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD), em embalagens alimentícias de polipropileno clarificado (PPc). Visando principalmente o segmento de garrafas para bebi
Publicado em: 16/11/2012
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3. Effect of PECVD deposition parameters on the DLC/PLC composition of a-C:H thin films
Filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) têm sido depositados na superfície de materiais para melhorar propriedades mecânicas, ópticas e químicas. Nesse estudo, foi empregado o sistema de deposição química assistida por plasma (PECVD) para sintetizar filmes de a-C:H com fases DLC (tipo diamante) e PLC (tipo polimérico). As pressões parcia
J. Braz. Chem. Soc.. Publicado em: 11/09/2012
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4. Polipropileno clarificado recoberto com filme de carbono amorfo hidrogenado pelo processo PECVD / Clarified polypropylene coated with hydrogenated amorphous carbon film by PECVD process
This work aimed to study the feasibility of application of clarified polypropylene (cPP) coated with hydrogenated amorphous carbon films (a-C:H) deposited by Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) in food packaging, mainly targeting the segment of bottles for carbonated beverages. For the deposition of films of a-C:H using different deposition pa
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 03/10/2011
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5. Modificação da molhabilidade de filmes carbono amorfo hidrogenado por processos ópticos / Wettability modification of hydrogenated amorphous carbon film by optical process
Este trabalho tem como objetivo investigar as mudanças na mol habilidade de filmes de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) induzidas por processos ópticos. Estes filmes de a-C:H foram depositados pela técnica química na fase vapor assistida por plasma (PECVD) sobre substratos de aço e latão, em ambiente com 100% de acetileno. Dois grupos de amostras fora
Publicado em: 2011
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6. Estudo dos parâmetros de deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado obtidos pelo processo PECVD em embalagens de PET pós-consumo reciclado / Study of the deposition of thin films of hydrogenated amorphous carbon obtained by PECVD process in packaging recycled post consumer PET
Atualmente, observa-se que os resíduos poliméricos representam uma elevada parcela na composição dos resíduos sólidos urbanos (RSU). Dentre estes materiais tem-se destaque o poli (tereftalato de etileno) (PET) que é um dos principais polímeros consumidos no segmento de embalagens de rápido descarte. Desse modo, a reciclagem de PET visando aplicaçã
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 21/12/2010
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7. Deposição de filmes finos de silício amorfo hidrogenado por sputtering reativo. / Deposition of hydrogenated amorphous silicon thin films by reactive sputtering.
Neste trabalho filmes finos de silício amorfo hidrogenado (a-Si:H) foram depositados no reator magnetron sputtering do laboratório de sistemas integráveis (LSI), a temperaturas menores que 100 °C, pela introdução do gás hidrogênio junto com o de argônio para pulverização de um alvo de silício policristalino. As condições de deposição investig
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 21/10/2010
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8. Optical, mechanical and structural properties of amorphous carbon films / Propriedades opticas, mecanicas e estruturais de filmes de carbono amorfo
Neste trabalho desenvolvemos um sistema de deposição de filmes finos pela técnica de arco catódico filtrado (FCVA- Filtered Cathodic Vacuum Arc), que possibilita o desenvolvimento de ligas metálicas e, sobretudo, a deposição de filmes de carbono amorfo altamente tetraédrico. Utilizando este sistema desenvolvemos filmes de carbono amorfo (a-C) com ele
Publicado em: 2009
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9. Utilização de filmes de carbono tipo-diamante nitrogenados e fluorados como materiais eletrônicos.
Este trabalho tem por objetivo principal estudar as alterações que possam vir a ocorrer nas propriedades eletrônicas do filme de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H), em virtude da incorporação dos aditivos nitrogênio e flúor. A deposição dos filmes a-C:H, a-C:H:N e a-C:H:F que foram estudados neste projeto de doutorado foi realizada através da técn
Publicado em: 2008
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10. Estudo e caracterização de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos por PECVD visando sua aplicação em MEMS e dispositivos ópticos. / Study and characterization of a-Si1-xCx:H thin films produced by PECVD aiming applications in mems and optical devices.
Neste trabalho foi desenvolvido um estudo sistemático das propriedades estruturais, mecânicas e ópticas de filmes de carbeto de silício amorfo hidrogenado (a-Si1-xCx:H) produzidos pela técnica de deposição química a vapor assistida por plasma (PECVD) a baixas temperaturas (320°C), utilizando silana (SiH4) e metano (CH4) como gases precursores do sil
Publicado em: 2008
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11. Thermo-mechanical properties of a-SiC:H and SiOxNy thin films and development of MEMS. / Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS.
O presente trabalho, realizado junto ao Grupo de Novos Materiais e Dispositivos (GNMD), no Laboratório de Microeletrônica do Departamento de Sistemas Eletrônicos da Escola Politécnica da USP, visou determinar algumas das propriedades termo-mecânicas de materiais depositados pela técnica de plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) que são impo
Publicado em: 2008
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12. Estudo das modificações microestruturais e mecânicas de filmes de a-C:H, a-C:N:H: e a-C:F:H irradiados com íons de N/sup +/ e Xe/sup ++/
Nesse trabalho foram estudados os efeitos da irradiação iônica em filmes de carbono amorfo hidrogenado, sem (a-C:H) e com a presença de N e F (a-C:N:H e a-C:F:H, respectivamente). Os filmes foram crescidos através da técnica de Deposição Química na Fase Vapor Assistida por Plasma. Após a deposição, os filmes foram irradiados com N+ a 400 keV e Xe
Publicado em: 2007