Síntese e caracterização de nanocompósitos Ni: SiO2 processados na forma de filmes finos

AUTOR(ES)

Gouveia, Paulo Sérgio, Escote, Marcia Tsuijama, Longo, Elson, Leite, Edson R., Carreño, Neftali L. V., Fonseca, Fabio C., Jardim, Renato de F.

FONTE

Química Nova

DATA DE PUBLICAÇÃO

2005-10

RESUMO

We have produced nanocomposite films of Ni:SiO2 by an alternative polymeric precursor route. Films, with thickness of ~ 1000 nm, were characterized by several techniques including X-ray diffraction, scanning electron microscopy, atomic force microscopy, flame absorption atomic spectrometry, and dc magnetization. Results from the microstructural characterizations indicated that metallic Ni-nanoparticles with average diameter of ~ 3 nm are homogeneously distributed in an amorphous SiO2 matrix. Magnetization measurements revealed a blocking temperature T B ~ 7 K for the most diluted sample and the absence of an exchange bias suggesting that Ni nanoparticles are free from an oxide layer.

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