Propriedades de filmes finos de ZnO:Al depositados sobre substratos de poliimida à temperatura ambiente para aplicações em dispositivos optoeletrônicos flexíveis
AUTOR(ES)
Cruz, L. R., Lopes, B. F. M., Medeiro, R. A., Lima, R. M. C., Ferreira, C. L.
FONTE
Cerâmica
DATA DE PUBLICAÇÃO
2017-04
RESUMO
Resumo Este trabalho apresenta as propriedades de filmes finos de ZnO:Al crescidos por pulverização catódica com rádio frequência sobre substratos de poliimida para serem utilizados como eletrodos flexíveis de dispositivos optoeletrônicos. Para efeitos de comparação, os filmes também foram crescidos sobre lâminas de vidro soda-lime. Os filmes foram depositados com diversas potências de trabalho, sobre substratos mantidos à temperatura ambiente. Os efeitos da potência e da espessura nas propriedades ópticas, elétricas e estruturais do ZnO:Al foram investigados. Imagens de microscopia de força atômica revelaram que os filmes foram nanocristalinos e de baixa rugosidade. Valores de resistência de folha de 8 Ω/sq, correspondente a uma resistividade de 6x10-4 W.cm, e de transmitância de 75% na faixa do visível foram obtidos, os quais podem ser considerados satisfatórios, principalmente quando se considera que a deposição foi realizada à temperatura ambiente.
ASSUNTO(S)
zno:al contatos elétricos transparentes eletrodos transparentes flexíveis
Documentos Relacionados
- Propriedades físico-químicas de filmes finos de Al2O3 depositados por sputtering sobre Ge
- Propriedades supercondutoras de filmes finos de Nb depositados por magnetron sputtering
- Filmes finos depositados em plasmas de acetileno, etano, propano e benzeno : preparação e propriedades
- Propriedades estruturais e opticas de filmes finos de oxido de titanio depositados por PECVD
- Filmes finos de CeO2 depositados por spray pirólise