Modulação simultanea do indice de refração e da espessura em fotorresinas negativas comerciais
AUTOR(ES)
Lucila Helena Deliesposte Cescato
DATA DE PUBLICAÇÃO
1980
RESUMO
We study an index of refraction modulation process in a commercial negative photoresist. Through this process, which need no chemical development, the photoresist can be used as a real time optical recording material. We describe the temporal evolution of the process and the influence of the temperature and the spatial frequency of the recorded signal on its velocity. For these purposes we have developed systems and methods to produce and characterize photoresist films. An experimental set-up, that allows the measurement of changes of less than 10-3 mm in the optical pathlengh of a thin transparent film, has been developed.
ASSUNTO(S)
emulsões fotograficas fisica otica teoria da modulação
ACESSO AO ARTIGO
http://libdigi.unicamp.br/document/?code=vtls000056216Documentos Relacionados
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