Medida de espessura de filmes finos com interferometro de haidinger
AUTOR(ES)
Elisabeth Andreoli de Oliveira
DATA DE PUBLICAÇÃO
1987
RESUMO
We introduce a non-destructive method for the thickness measurement of thin transparent films coated on transparent substrates, using a Haidinger interferometer. From the interference fractions measured for various wavelengths, and the refraction index for only one wavelength, we determine the film thickness and its chromatic dispersion through an analytic-numeric procedure
ASSUNTO(S)
filmes finos - medição interferometros
ACESSO AO ARTIGO
http://libdigi.unicamp.br/document/?code=vtls000048148Documentos Relacionados
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