Low temperature synthesis of CdSiO3 nanostructures

AUTOR(ES)

Santana, Leonardo P., Almeida, Erick S. de, Soares, Jones L., Vichi, Flavio M.

FONTE

Journal of the Brazilian Chemical Society

DATA DE PUBLICAÇÃO

2011-10

RESUMO

Descreve-se a síntese de nanoestruturas de CdSiO3 cristalino como fase única a 580ºC; ao que sabemos, esta é a mais baixa temperatura de formação observada até o presente para este composto. A formação da fase desejada ocorre somente a partir de de 580ºC, já que a 570ºC os picos de difração estão deslocados para menores ângulos em relação ao padrão JCPDS 85-0310. A fonte de silício influencia diretamente a morfologia do material: Na2SiO3 leva à formação de nanopartículas na forma de agulhas, ao passo que sílica mesostruturada de alta área superficial leva a partículas coralóides. A difratometria de raios X em baixo ângulo mostra que o caráter mesosestruturado da sílica precursora não se mantém no CdSiO3 resultante. A microscopia eletrônica de varredura sugere que, neste caso, haja uma transição da morfologia esférica do precursor para a morfologia em forma de agulhas do material obtido a partir de Na2SiO3. A área superficial do precursor de sílica utilizado tem influência direta na formação de CdSiO3, pois o uso de sílica comercial de menor área superficial não resulta no produto desejado.

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