Influência dos parâmetros de crescimento em filmes finos de TiO2 depositados pelo método MOCVD

AUTOR(ES)
FONTE

Cerâmica

DATA DE PUBLICAÇÃO

2002-12

RESUMO

A síntese de filmes finos de TiO2 por meio do método MOCVD é descrita. Foi estudada a influência de parâmetros de deposição usados durante o crescimento nas características estruturais obtidas. Foram combinados diferentes temperaturas do banho organometálico, tempo de deposição, temperatura e tipo do substrato. A forte influência destes parâmetros na microestrutura final dos filmes foi estudada por meio de diferentes técnicas: microscopia eletrônica de varredura associada com espectroscopia eletrônica de dispersão de raios X, microscopia de força atômica e difração de raios X.

ASSUNTO(S)

compostos organometálicos filmes finos propriedades ópticas

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