Influência dos parâmetros de crescimento em filmes finos de TiO2 depositados pelo método MOCVD
AUTOR(ES)
Bernardi, M. I. B., Lee, E. J. H., Lisboa-Filho, P. N., Leite, E. R., Longo, E., Souza, A. G.
FONTE
Cerâmica
DATA DE PUBLICAÇÃO
2002-12
RESUMO
A síntese de filmes finos de TiO2 por meio do método MOCVD é descrita. Foi estudada a influência de parâmetros de deposição usados durante o crescimento nas características estruturais obtidas. Foram combinados diferentes temperaturas do banho organometálico, tempo de deposição, temperatura e tipo do substrato. A forte influência destes parâmetros na microestrutura final dos filmes foi estudada por meio de diferentes técnicas: microscopia eletrônica de varredura associada com espectroscopia eletrônica de dispersão de raios X, microscopia de força atômica e difração de raios X.
ASSUNTO(S)
compostos organometálicos filmes finos propriedades ópticas
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