Gas-Phase Nucleophilic Reactivity of Alkoxysilanes
AUTOR(ES)
Correra, Thiago C., Xavier, Luciano A., Riveros, José M.
FONTE
J. Braz. Chem. Soc.
DATA DE PUBLICAÇÃO
2013-02
RESUMO
A reatividade em fase gasosa das alcoxissilanas do tipo Me4-nSi(OEt)n (n = 1-3) foi investigada por ressonância ciclotrônica de íons por transformada de Fourier (FT-ICR) com o intuito de se caracterizar os mecanismos de ataque nucleofílico nesses importantes precursores de novos materiais. Nucleófilos como F-, MeO- e EtO- reagem rapidamente e de forma preferencial atacando o átomo de Si, formando a espécie pentacoordenada de Si. Esta em seguida sofre processos de eliminação iniciados, ou por um íon metídio nascente Me-, ou um íon etoxido EtO-, que por sua vez, podem abstrair um próton gerando carbânions ou silóxidos. Carbânions do tipo X(Me)3-nSi(OEt)nCH2 (X = F, MeO, EtO e n = 1-3) e silóxidos do tipo X(Me)4-nSi(OEt)n-1(X = F, MeO, EtO e n = 2-3) podem ser facilmente dissociados por excitação multifotônica no infravermelho induzida por um laser de CO2 gerando uma grande variedade de silóxidos simples e silicatos análogos à espécies intermediárias encontradas nas primeiras etapas de processos sol-gel. Para as alcoxissilanas que contêm mais grupos etóxido, uma reação competitiva análoga a uma eliminação E2 é observada, onde o nucleófilo abstrai um hidrogênio β de um grupo etoxila, eliminando etileno. A cinética, distribuição relativa de produtos e termoquímica dessas reações também são apresentadas para alguns casos específicos.
