Distribuição espacial da componente Ri em celulas eletroliticas

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DATA DE PUBLICAÇÃO

1989

RESUMO

Neste trabalho desenvolvemos uma técnica para determinar a distribuição espacial da componente resistiva do potencial das céIulas eletrolíticas. A técnica consiste em deslocar um eletrodo de referência no interior da célula, injetar pulsos de corrente com tempo de de caimento rápido <<0,5 ms) e medir o decaimento rápido inicial do potencial. A medida da componente Ri em função da distância entre o WE e o RE, extrapolada a distância nula, fornece o valor da resistência superficial do eletrodo. O equipamento eletrônico e o eletrodo de referência foram especialmente desenvolvidos com este objetivo. A resolução temporal do sistema é de 1,5 ms.Mostramos, medindo a componente resistiva do potencial, (com urna precisão de 10 mV), que em eletrodos novos a resistência superficial devida à evolução de bolhas, denominada "efeito cortina" na literatura, não existe para correntes de pulso até 600 mA/cm e para correntes DC de fundo até 500 mA/cm, que são as usualmente empregadas em eletrolisadores. Observamos uma camada resistiva em eletrodos envelhecidos ou em eletrodos que receberam uma eletrodeposição de niquel sem a prévia remoção eletroquimica da camada de óxido. Mostramos que as conexões elétricas da célula podem ser as responsáveis pelo chamado "efeito cortina". Para correntes de até 600 mA/cm e corrente DC de fundo com intensidade atá 500 mA/cm o efeito de bolhas no interior da solução, na nossa configuração de célula, não apresenta uma contribuição mensurável à componente resistiva na solução. O método do deslocamento do eletrodo de referência, desenvolvido neste trabalho, pode ser usado para determinar se o eletrodo de trabalho se encontra "envelhecido".

ASSUNTO(S)

eletrolise celulas eletroliticas

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