Desenvolvimento e avaliação de uma fonte DC de alta tensão para utilização em sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódica

AUTOR(ES)

Machuno, Luís Gustavo Baptista, Lima, Anderson Barbosa, Buso, Rafael Rocha, Abdanur, Rubens Miguel Favarato, Rangel, Elidiane Cipriano, Gelamo, Rogério Valentim

FONTE

Matéria (Rio J.)

DATA DE PUBLICAÇÃO

2016-06

RESUMO

RESUMO O trabalho em questão está relacionado ao projeto e construção de uma fonte de alta tensão em corrente contínua utilizando materiais e dispositivos adquiridos no comércio local visando sua aplicação no processo de pulverização catódica. Essa técnica permite a deposição de filmes finos de metais, óxidos e nitretos sobre substratos sólidos. Como teste de funcionamento e aplicação da fonte DC, com a mesma instalada em canhão de pulverização em alto vácuo, filmes finos de diferentes espessuras de cobre, aço inoxidável 304 e tungstênio foram depositados e estudados. Análise de espessura, morfologia, e resistência elétrica e resistividade foram conduzidas. Filmes com resistividade elétrica dependente das espessuras foram obtidos. A fonte DC se mostrou confiável em operação e permite a deposição de uma infinidade de materiais nas mais diferentes espessuras sobre vários tipos de substratos.

ASSUNTO(S)

fonte dc de alta tensão filmes finos sputtering nanotecnologia pulverização catódica plasmas frios

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