Bond strength of a pit-and-fissure sealant associated to etch-and-rinse and self-etching adhesive systems to saliva-contaminated enamel: individual vs. simultaneous light curing

AUTOR(ES)

Gomes-Silva, Jaciara Miranda, Torres, Carolina Paes, Contente, Marta Maria Martins Giamatei, Oliveira, Maria Angélica Hueb de Menezes, Palma-Dibb, Regina Guenka, Borsatto, Maria Cristina

FONTE

Brazilian Dental Journal

DATA DE PUBLICAÇÃO

2008

RESUMO

Este estudo avaliou in vitro a resistência ao cisalhamento (RC) de um selante resinoso [Fluroshield (F), Dentsply/Caulk] em associação com um sistema adesivo de condicionamento total [Adper Single Bond 2 (SB), 3M/ESPE] ou auto-condicionante [Clearfil S3 Bond (S3), Kuraray Co., Ltd.] após contaminação salivar do esmalte, comparando dois protocolos: fotopolimerização individual do sistema adesivo e do selante ou simultânea de ambos os materiais. Superfícies mesiais e distais de esmalte de 45 terceiros molares hígidos foram aleatoriamente alocadas em 6 grupos (n=15), de acordo com a técnica adesiva empregada: I - F foi aplicado sobre o esmalte condicionado com ácido fosfórico a 37%. Os demais grupos foram contaminados com saliva (0,01 mL por 10 s) após o condicionamento ácido. II - SB e F foram fotopolimerizados separadamente; III - SB e F foram fotopolimerizados simultaneamente; IV - S3 e F foram fotopolimerizados separadamente; V - S3 e F foram fotopolimerizados simultaneamente; VI - F foi aplicado sobre o esmalte condicionado e contaminado sem sistema adesivo. RC foi testada em uma máquina universal de ensaios (0,5 mm/min; 50 kgf) e os dados analisados por ANOVA a 1 fator e teste exato de Fisher (α=0,05). As interfaces adesivas foram analisadas quanto ao padrão de fraturas em estereomicroscópio. Três espécimes de cada grupo foram analisados qualitativamente em microscópio eletrônico de varredura. As médias de RC em MPa foram: I-12,28 (±4,29); II-8,57 (±3,19); III-7,97 (±2,16); IV-12,56 (±3,11); V-11,45 (±3,77); e VI-7,47 (±1,99). Conclui-se que a fotopolimerização individual ou simultânea do sistema adesivo e do selante não afetou os valores de RC ao esmalte contaminado. S3/F apresentou RC estatisticamente maior do que os grupos tratados com o sistema adesivo etch-and-rinse SB e estatisticamente semelhante ao grupo controle, no qual o selante foi aplicado em condições ideais, na ausência de contaminação salivar.

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