Análise fotoelástica de distribuição de tensões em implantes paralelos e em protocolo tipo all-on-four / Photoelastic analysis of stress distribution in parallel implants and protocol all-on-four

AUTOR(ES)

Rachid Pinto Zacarias Filho

DATA DE PUBLICAÇÃO

2010

RESUMO

O objetivo nesta pesquisa foi avaliar in vitro através da fotoelasticidade, as tensões induzidas em protocolos com implantes inclinados (conceito All-on-Four) e paralelos, utilizados em prótese sobre implantes mandibulares com infraestruturas confeccionadas em titânio, soldadas a laser e submetidos à carga distal. Os protocolos foram confeccionados com barras de titânio com 3 mm de diâmetro (Conexão Sistemas de Prótese - SP) soldados sobre 2 modelos-mestres em gesso especial (Durone-Dentsply) sendo: 1 modelo com quatro implantes dispostos de forma paralela (GP) e 1 modelo com quatro implantes, sendo dois mesiais dispostos de forma paralela e dois distais inclinados, instalados segundo o protocolo All-on-four (GI). A disposição dos implantes em número de quatro (GP) possuem perfurações eqüidistantes e paralelas entre si, seguindo a média do espaço intra-foramidal de acordo com o posicionamento encontrado para o sistema Branemark®. No caso do grupo inclinado (GI), a instalação dos quatro implantes foi feita segundo o guia All-on-four da Nobel Biocare®. Todos os implantes Master Screw (Conexão Sistemas de Prótese - SP) eram hexágonos externos e diâmetro regular (3,75mm X 13 mm). Foi confeccionado um modelo com três paredes planas, em resina fotoelástica (Araldite - Araltec) de cada um dos protocolos, permitindo a quantificação das tensões em cada implante, por meio da técnica fotoelástica de transmissão plana. Após carga de 100 Ncm sobre área de cantilever das infra-estruturas, as tensões foram registradas e analisadas em polariscópio circular acoplado a uma máquina fotográfica digital (Cyber-Shot DSC-717 - Sony) que captou as imagens. Os resultados evidenciaram que a infraestrutura do GI apresentou maior número de franjas especialmente sobre os implantes inclinados distais. O grupo com implantes paralelos demonstrou melhor distribuição das tensões após a aplicação do carregamento distal

ASSUNTO(S)

implantes dentario endoosseos análise do estresse dentário photoelasticity dental implantation endosseous dental stress analysis fotoelasticidade

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